HMDS预处理系统通过对烘箱预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。
HMDS真空烘箱技术参数：
电源电压：AC 220V±10%/50Hz±2%
输入功率：2400W
控温范围：RT+10℃-250℃
温度分辨率：0.1℃
温度波动度：±0.5℃
达到真空度：133Pa
容积：90L
工作室尺寸（mm）：450*450*450
载物托架：2块
时间单位：min
二、HMDS真空烘箱特点：
1、 采用医用级不锈钢316L材质制造，内胆为不锈钢316L；加热器均匀分布在内胆
外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观
察工作室内物体一目了然。
2、 箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。
3、 微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温
精确，可靠。
4、 智能化触摸屏控制系统配套进口PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，
温度，真空度及每一程序时间。
5、 HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外
漏顾虑。
6、 整个系统采用优质材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。
