清洁烤箱，无尘烤箱用于IC生产过程中极为重要的光刻工艺中预烘烤（软烘），脱水烘烤，涂胶后的坚膜烘烤（硬烘）；也适用于电子液晶显示、LCD、CMOS、OLED、医药、实验室等生产及科研部门。
清洁烤箱，无尘烤箱简述
无尘烤箱用于IC生产过程中极为重要的光刻工艺中预烘烤（软烘），脱水烘烤，涂胶后的坚膜烘烤（硬烘）；也适用于电子液晶显示、LCD、CMOS、OLED、医药、实验室等生产及科研部门。
无尘烤箱原理
无尘烤箱配备HEPA过滤器，以保持炉腔无颗粒。 HEPA过滤器（高效微粒捕获）现在是电子和平板显示器洁净室组装的主要过滤系统，或任何需要减少或去除亚微米微粒的应用。 HEPA过滤器具有随机定位的微玻璃纤维的深床，其中与平均纤维直径和自由路径横截面的有效孔相比，总床深度（过滤器的厚度）非常大。
通过HEPA过滤器的气体必须流过的通道不是直的，而是非常曲折的。随着颗粒对纤维的影响并粘附在纤维上，通道变得更小并且过滤器的效率提高。无尘烤箱以及LCD行业的特殊输送炉中使用这些过滤器。为了保护过滤器不会在烤箱中过热，实施了用于过滤器的特殊保护系统。 HEPA过滤器在正常条件下保持其在烤箱中的效率一至数年。 HEPA不需要任何清洁或维护来保持这种效率。无尘烤箱用于半导体行业。
清洁烤箱特点
1、用于烘烤非光敏聚酰亚胺（PI）的清洁烤箱，在干净的环境中处理集成的HEPA过滤器。温度高达350°C 温度。 氧气可以保持<20ppm。可编程控制器。内部尺寸可自定义。
2、可以提供与PC的数据耦合，这允许长期数据存储以及统计过程控制SPC，配方管理和过程可视化。
3、 强制送风循环方式，双风道循环结构，温度场分布均匀，智能P.I.D温控系统，从而得到高精度温度控制。
4、可实现智能化生产要求。SECS / GEM是用于设备到主机数据通信的半导体设备接口协议。在自动化工厂中，接口可以启动和停止设备处理，收集测量数据，更改变量并为产品选择配方。
无尘烤箱，智能无尘烤箱基本参数
1、 温度范围：RT-200/450℃;
2、 温度均匀度：±2℃;
3、 温度波动度：±0.5℃；
4、 温控精度：±0.1℃;
5、 洁净度：100/10级的洁净热处理HEPA过滤器与前出风水平层对流循环方式实现并保证箱内的温度分布的均匀性与洁净度。
