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HMDS烘箱生产厂家

HMDS烘箱生产厂家

简要描述:

HMDS烘箱生产厂家由于该系统是将“去水烘烤“和HMDS处理放在同一道工艺,同一个容器中进行,晶片在容器里先经过100℃-160℃的去水烘烤,再接着进行HMDS处理,不需要从容器里传出,而接触到大气,晶片吸收水分子的机会大大降低,所以有着更好的处理效果。

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一、HMDS烘箱生产厂家技术参数

电源电压:AC 220V±10%/50Hz±2%

输入功率:2000W

控温范围:RT+20℃-160℃

温度分辨率:0.1℃

温度波动度:±0.5℃

达到真空度:-100kPa(1torr)

工作室尺寸(mm):450*450*450(可定做)

有可自动吸取添加HMDS功能,智能型的程式设定,一键完成作业。

二、HMDS烘箱生产厂家预处理系统特点:

1、预处理性能更好,由于是在经过数次的氮气置换再进行的HMDS处理,所以不会有尘埃的干扰,再者,由于该系统是将"去水烘烤"和HMDS处理放在同一道工艺,同一个容器中进行,晶片在容器里先经过100℃-160℃的去水烘烤,再接着进行HMDS处理,不需要从容器里传出,而接触到大气,晶片吸收水分子的机会大大降低,所以有着更好的处理效果。

2、处理更加均匀,由于它是以蒸汽的形式涂布到晶片表面上,所以有液态涂布不可比拟更好的均匀性。

3、效率高,液态涂布是单片操作,而本系统一次可以处理多达4盒的晶片。

4、更加节省药液,实践证明,用液态HMDS涂布单片所用的药液比用本系统处理4盒晶片所用药液还多;

5、 更加环保和安全,HMDS是有毒化学药品,人吸入后会出现反胃、呕吐、腹痛、呼吸道等,由于整个过程是在密闭的环境下完成的,所以不会有人接触到药液及其蒸汽,也就更加安全,它的尾气是直接由机械泵抽到尾气处理机,所以也不会对环境造成污染。    

三、的原理:      

    HMDS预处理系统通过对烘箱预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS,降低了HMDS处理后的硅片接触角,降低了光刻胶的用量,提高光刻胶与硅片的黏附性。

四、预处理系统的必要性:

    在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。

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