可程式HMDS真空 烘箱 HMDS真 空烘箱 用于光刻胶粘合的 HMDS 气相沉积 晶圆基底脱水烘烤

掩膜版HMDS真空烘箱 hmds烤箱使基底表面由亲水性变为疏水性，增强表面的黏附性（HMDS-六甲基二硅胺烷）。适用于硅片、麟化铟、砷化镓、陶瓷、不锈钢、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料。

桌上型HMDS烘箱，小型HMDS真空烤箱采用HMDS涂布方法改变晶圆表面的亲水性，从而增大晶圆表面的接触角），增强光刻胶和晶圆的粘附力。

碳化硅HMDS烘箱，SiC衬底HMDS烤箱将HMDS气相沉积至半导体制造中氮化镓（GaN）和、碳化硅（SiC）、硅片、砷化镓等材料表面后，经系统加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用

HMDS烘箱真空泵，IDP10无油泵泵具有密封设计，电机和轴承与真空环路全隔离，延长了轴承的使用寿命，并提供洁净、无油的真空条件。IDP 泵采用单面涡旋设计，可通过简单的工具在 15 分钟内完成维护操作。可选的集成式隔离阀防止意外污染，并且不会额外增加泵的高度。

HMDS 烘箱是将HMDS蒸汽通过干燥的真空腔内加热到(120-150°C)，在衬底表面上HMDS作为单层膜进行化学结合。

HMDS烤箱，HMDS真空烘箱将HMDS气相沉积至半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料表面后，经系统加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。