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HMDS真空系统 HMDS预处理系统 图像反转烘箱
HMDS真空系统 HMDS预处理系统 图像反转烘箱

HMDS真空系统 HMDS预处理系统 图像反转烘箱可快速、均匀、经济高效地用六甲基二硅烷 (HMDS) 对晶圆表面进行底漆处理,从而改善光刻胶的附着力。

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HMDS烘箱  图像反转系统 HMDS涂胶机
HMDS烘箱 图像反转系统 HMDS涂胶机

HMDS烘箱 图像反转系统 HMDS涂胶机使用HMDS(六甲基二硅氮烷)对晶圆表面进行快速、均匀、经济高效的涂布,以提高光刻胶的附着力。这些多功能系统还支持图像反转,形成具有与正光刻胶相同的分辨率和易用性的负图像。

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光刻胶HMDS烘箱  HMDS疏水处理烘箱
光刻胶HMDS烘箱 HMDS疏水处理烘箱

光刻胶HMDS烘箱 HMDS疏水处理烘箱应用多晶硅,石英,太阳能电池片、金属、贵金属、蓝宝石、SiC(碳化硅)、磷化铟、GaN(氮化镓)、ZnO(氧化锌)、GaO(氧化镓)、金刚石等第三代半导体材料。

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HMDS烘箱专用真空泵,HMDS系统无油泵
HMDS烘箱专用真空泵,HMDS系统无油泵

HMDS烘箱专用真空泵,HMDS系统无油泵较小的噪音 - 一台干泵却拥有较好的真空度,较大的抽速 - 停机时间短,维护成本更低

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HMDS疏水烘箱,HMD真空烘箱
HMDS疏水烘箱,HMD真空烘箱

HMDS疏水烘箱,HMD真空烘箱是涂胶前对硅片表面进行处理,可以增加硅片表面水分子的接触角,使衬底表面从亲水性转化为疏水性

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光伏电池片HMDS处理系统,HMDS预处理烘箱
光伏电池片HMDS处理系统,HMDS预处理烘箱

光伏电池片HMDS处理系统,HMDS预处理烘箱就是涂胶前要进行增粘处理。由于衬底表面吸水特性,使疏水的光刻胶无法与亲水的晶圆表面结合良好。未经过HMDS表面处理的晶圆在后道工艺中容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。

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HMDS烘箱,太阳能电池片HMDS烘箱
HMDS烘箱,太阳能电池片HMDS烘箱

HMDS烘箱,太阳能电池片HMDS烘箱适用行业:MEMS、太阳能、电池片、滤波、放大、功率等器件,晶圆、玻璃、贵金属,SiC(碳化硅)、GaN(氮化镓)、ZnO(氧化锌)、GaO(氧化镓)、金刚石等第三代半导体材料。

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