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蓝宝石增粘烘箱, HMDS烘箱

蓝宝石增粘烘箱, HMDS烘箱

简要描述:

蓝宝石增粘烘箱, HMDS烘箱将HMDS涂到半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。

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蓝宝石增粘烘箱 HMDS烘箱的原理:      

   HMDS预处理系统通过对烘箱预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS,降低了HMDS处理后的硅片接触角,降低了光刻胶的用量,提高光刻胶与硅片的黏附性。

蓝宝石增粘烘箱 HMDS预处理的必要性:

  在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。

蓝宝石增粘烘箱 HMDS烘箱技术参数:

电源电压:AC 220V±10%/50Hz±2%

输入功率:2200W

温度范围:RT+10℃-250℃

温度分辨率:0.1℃

温度波动度:±1℃

达到真空度:133Pa1torr)

工作室尺寸(mm):450*450*450,550*550*350(可定做)

蓝宝石增粘烘箱 HMDS烘箱特点:

1、预处理性能更好

2、处理更加均匀

3、效率高

4、更加节省药液

5、更加环保和安全   

6、低液报警装置

7、可自动吸取HMDS功能,

8、可自动添加HMDS功能

9、HMDS药液泄漏报警功能

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