技术文章您的位置:网站首页 >技术文章 > HMDS预处理烘箱在光刻工艺中的重要作用

HMDS预处理烘箱在光刻工艺中的重要作用

更新时间:2023-12-13   点击次数:580次

HMDS预处理烘箱在光刻工艺中的重要作用为:增强光刻胶和衬底表面的粘附力。

光刻工艺中涂胶显影流程包括HMDS(六甲基二硅氮烷,增粘剂)预处理、涂胶、前烘、曝光、后烘、显影和坚膜。

HMDS预处理作用:

增强光刻胶和衬底表面的粘附力;

实现方法:浸泡、涂覆、气相处理(即HMDS烘箱)等。

HMDS预处理烘箱

   JS-hmds90烘箱采用气相沉积的方法涂布HMDS化合物。HMDS烘箱在高温条件下,达到真空状态后开始涂布工艺,涂布完成后排出尾气,烘箱内部充入N2,达到常压后方可开门。

温度范围:RT+10-250℃

真空度:≤1torr

控制仪表:人机界面,一键运行

储液瓶:HMDS储液量1000ml 

真空泵:无油涡旋真空泵

数据处理:多个工艺方案,可修改并记录,使用数据可记录

保护装置: 低液位报警,HMDS药液泄漏报&警,超温保护并断开加热,超温保护,漏电保护,过热保护等




涂胶

作用:a.转移掩模版图形到衬底的介质b刻蚀工艺中保护衬底;实现方法:浸泡、旋转、喷雾、刷胶等:

前烘

b.蒸发溶剂;作用:a.增强粘附性实现方法:真空热板85~120C处理。

曝光

作用:将掩模版图形转移到衬底表面;实现方法:接触式、接近式、投影式。

后烘

作用:a.减少驻波效应

        b.使光刻胶更易溶于显影液:实现方法:热板或烘箱等110-130C处理。

显影作用:去除(未)曝光胶膜,保留图形实现方法:浸泡、旋转浸泡、旋转喷雾

坚膜

作用:a.进一步减少驻波效应 

        b.进一步增强抗刻蚀能力;实现方法:热板或坚膜烘箱等100-130C处理


分享到:

返回列表返回顶部
COPYRIGHT @ 2016 网站地图    沪ICP备16022591号-1   

上海隽思实验仪器有限公司主营产品:无氧化烘箱,精密热风烘箱,晶元烘箱,百级氮气烤箱,无氧烤箱
地址:上海奉贤柘林工业区3213号

环保在线

推荐收藏该企业网站