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HMDS预处理烘箱在显示器件加工中的用途

更新时间:2023-03-29   点击次数:566次

一种电润湿显示器件用的下基板、电润湿显示器件及制备方法,包括以下步骤:

 第一步:在硅基片上整面沉积非金属的电极层 ;

第二步:在沉积有非金属电极层的硅基片上面均勻涂覆一层正性光阻,将光阻干燥后,曝光、显影、干燥,在硅基片上形成与预定的电极图案相同的光阻图案;

第三步:以形成的该光阻图案为掩膜,用蚀刻液将未被光阻覆盖的非金属电极层刻蚀 掉,然后剥离光阻,形成预定的电极图案;

第四步:在制作好电极图案的硅基片上面沉积介质层,将原制作好的显示区域内的电极覆盖

第五步:对介质层表面进行疏水性处理,处理过程在HMDS预处理烘箱中进行,在封闭的真空腔体内将HMDS气化后均勻涂覆在置于腔体内的样品表面,处理温度为100-200C ;

 第六步:在介质层上面涂覆正性光阻,用像素绝缘层的掩膜覆盖、曝光、显影、干燥,最 终形成像素绝缘层图案。

HMDS预处理烘箱工艺的作用

1.脱水烘烤,在成底膜和涂光刻胶之前必须进行脱水烘烤处理;一般在温度设定在150-200℃之间,在真空+充氮的气氛中处理效果更好。

2.HMDS涂覆,在系统真空状态下,将HMDS药液吸入系统内并气化,气化后的HMDS将均匀的涂覆在基地的表面。

3.坚膜烘烤,HMDS气化完成后,在系统内保持一定的时间,使得HMDS涂覆更加有效。

4.尾气排放,HMDS涂覆完成后排出剩余的气体,HMDS尾气处理。

HMDS预处理烘箱的应用:
用于除去硅片表面的污染物(颗粒、有机物、工艺残余、可动离子),除去水蒸气,使基底表面由亲水性变为疏水性,增强表面的黏附性(HMDS-六甲基二硅胺烷)。适用于硅片、麟化铟、砷化镓、陶瓷、不锈钢、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料。


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