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光刻工艺HMDS镀膜机,MOS器件HMDS镀膜 机

光刻工艺HMDS镀膜机,MOS器件HMDS镀膜 机

简要描述:

光刻工艺HMDS镀膜机,MOS器件HMDS镀膜 机涂布工艺是改善晶圆表面接触角的关键步骤。

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光刻工艺HMDS镀膜机,MOS器件HMDS镀膜 机用途: 
  光刻胶倒胶缺陷对于最终的产品良率有着极大的影响。光刻胶倒胶缺陷的产生,很大一部分原因是由于晶圆表面接触角不佳。光刻的六甲基二硅胺烷(HMDS)涂布工艺正是改善晶圆表面接触角的关键步骤。
光刻工艺HMDS镀膜机,功率MOS器件HMDS镀膜机特点:

1.HMDS是以气态形式气相涂布在器件(硅片、氮化镓、砷化镓、蓝宝石、玻璃、陶瓷等材料)表面;

2.在显影过程中无需去除硅片表面的HMDS层;

3.在HMDS上面滴光刻胶甩涂时,光刻胶内的溶剂不会破坏HMDS层;

4.多余的HMDS蒸汽将由真空泵抽出,排放到专用废气收集管道,不会造成环境污染;

5.所有制程都在密闭的腔体内完成,操做是不会接触到HMDS蒸汽,该设备具有HMDS药液泄漏检测报警装置;

6.可保存多个产品制程,制程工艺一键完成,无需值守人员。

光刻工艺HMDS镀膜机,MOS器件HMDS镀膜 机技术性能:

1.设备品牌:隽思                                                        
2.工作室尺寸(mm): 450*450*450,500*500*600 可定制

3 外形尺寸:以实物为准

4. 材质:设备内腔采用优质耐腐蚀、耐高温316L医用级不锈钢,外箱采用优质冷轧板静电喷塑或优质不锈钢,

5. 温度使用范围 :80-200℃ 

6. 温度分辨率 :0.1℃

7. 温度波动度: ≤±0.5

8. 真空压力: ≤100pa 

9.数据记录:可记录温度、压力等工艺数据

10.工艺安全:具有温度锁定功能

11.管路加热:药液输送管道可预热

12. 控制模式 :人机界面+PLC

13.药液瓶 :优质耐压防爆型

14. 药液控制 :可控制HMDS药夜添加量

15.真空泵:旋片式油泵或涡旋干泵

16. 保护装置:HMDS药液泄漏检测装置,HMDS自动添加,超温保护,漏电保护,过热保护等


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