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精密烤胶台，高精度烘胶机适应于半导体硅片，载玻片，晶片，基片，ITO导电玻璃等工艺，制版的表面涂覆后，薄膜烘干，固化。热板温度稳定度高，重复性好。可在工矿企业、科研、教育等单位作生产、科研、教学之用。
产品型号：厂商性质：生产厂家更新时间：2025-09-17访 问 量：2349
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精密烤胶台，高精度烘胶机概述：
用于晶圆的单面烘烤，可用于预烘烤（Pre-bake），前烘（soft bake），底胶涂覆（Primer Vapor）和后烘烤(hardbake坚膜)工艺。适应于半导体硅片，载玻片，晶片，基片，ITO导电玻璃等工艺，制版的表面涂覆后，薄膜烘干，固化。热板温度稳定度高，重复性好。可在工矿企业、科研、教育等单位作生产、科研、教学之用。
精密烤胶台，高精度烘胶机技术性能：
加热面积尺寸：160mm*160mm、220mm*220mm，多尺寸定制
控温范围：室温--200、300/400/500/600℃
温度分辨率 ：0.1℃
温度波动度：≤±0.5℃
温度均匀性：≤±0.5/1℃
电源输入：AC220V 10A
加热功率：1500W
热板表面: 由硬质阳极氧化铝制成
精密烤胶台特点：
稳定性能非常好，温度稳定度可达±0.5℃。
温度调节范围宽：室温-500℃
采用闭环控制，升温速度快。
具有定时功能。同时带倒计时显示功能。
采用数字按键控制温度与时间，温度与时间设定更加精确。
机身全部采用不锈钢，耐酸耐碱耐腐蚀。
针对客户基片尺寸大小，提供加热板定制服务。
可选配功能：
支撑pin材料
边缘支撑pin
N2吹扫，无氧化烘烤
烘焙距离可调模组
真空腔体
智能型控制系统
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