智能型HMDS涂胶机,自动HMDS涂胶镀膜机也称为HMDS处理,是用于使晶片表面呈疏水性的处理。
智能型HMDS涂胶机,自动HMDS涂胶镀膜机用途
也称为HMDS处理,是用于使晶片表面呈疏水性的处理。
光刻胶的显影液为水溶液时(使用正型光刻胶等时),必须进行处理。 HMDS是六甲基二硅氮烷的简称,它是通过以下反应使甲基(―CH3 )结合在硅晶片表面的物质。 该化学式左边的ho–Si≡被称为硅烷醇基,存在于si的氧化物( SiO2)的表面,使表面呈亲水性。 在大气中,在Si的结晶表面通常也会自然地生成氧化膜,所以在Si晶片的表面仍然存在该硅烷醇基。 因此,可以认为在HMDS和硅晶片之间一定会发生这种反应。 晶片表面的两个硅烷醇基反应一个HMDS,其结果是硅烷醇基被甲基这种疏水性伞覆盖,因此整个Si晶片表面变为疏水性性质。 另外,该反应会产生NH3 (氨)。 当然,对于没有硅烷醇基的表面,不能通过HMDS进行疏水化。 那么,存在硅烷醇基的表面(例如带有自然氧化膜的Si晶片或CVD膜的表面)是亲水性的,因此使用以水为主要成分的显影液(例如正型抗蚀剂用的显影液)时,显影液容易浸入与晶片表面抗蚀剂之间。 由此,产生显影时抗蚀剂的图案剥离的问题。 HMDS处理的作用在于将晶片表面疏水化,防止显影液的浸入。 这样,抗蚀剂难以剥离,因此有时也被称为“HMDS处理会改善抗蚀剂的密合性"。
智能型HMDS涂胶机,自动HMDS涂胶镀膜机技术参数
内腔尺寸:300×300×300、450×450×450、550×550×600(mm),可定制
材质 :内箱采用316L医用级不锈钢,外箱采用冷轧板喷塑或不锈钢,
温度使用范围:80-200℃
温度分辨率:0.1℃
温度波动度:≤±0.5
真空度:≤100pa(1torr)
时间设置:精度1S
洁净度: 设备采用无尘材料,适用100级光刻间净化环境
电源及总功率: AC 220V±10% / 50HZ
控制仪表: 人机界面
搁板层数: 一、二层
HMDS控制:可控制HMDS药液添加量
真空泵: 无油涡旋真空泵(多种可选)
保护功能:温度与程序锁定功能,HMDS泄漏报警功能,气体管路预热功能,储液罐低液位提示功能,自动加液功能等。