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  • 前烘洁净烘箱,半导体工艺烤箱
    前烘洁净烘箱,半导体工艺烤箱,用于半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃等材料涂胶前的预处理烘烤、涂胶后坚膜烘烤和显影后的高温烘烤,强制送风循环方式。
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    2025-09-16
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  • 半导体光刻烤箱晶圆涂胶烤箱
    半导体光刻烤箱晶圆涂胶烤箱、光刻涂胶用烘箱是一种提供高温净化环境的特殊洁净烘干设备。箱内空气封闭自循环。经耐高温高效空气过滤器过滤,使烘箱工作室内处于无尘状态。
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  • 半导体工艺洁净烘箱,百级无尘烘箱
    半导体工艺洁净烘箱,百级无尘烘箱具有*设计的强鼓风循环系统确保了温度的稳定性,高效循环过滤系统确保箱内的洁净度,控温装置采用 PID 数显控温(可选触摸屏等),直观醒目,设有可靠性保护装置。
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  • HMDS烘箱,半导体工艺HMDS设备
    HMDS烘箱,半导体工艺HMDS设备有可自动吸取添加HMDS功能,智能型的程式设定,一键完成作业。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。
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  • RTP快速退火炉,半导体工艺快速热处理设备
    RTP快速退火炉,快速热处理设备(RTP)简介 快速热处理设备(RTP)可用于砷化镓、硅以及其他半导体材料,离子注入后的退火、硅化物的形成、欧姆接触制备以及快速氧化、快速氮化等方面。RTP快速退火炉,快速热处理设备(RTP)具有快速升降温、慢速升降温、和长工作时间稳定等特点。也可用于各种半导体材料的CVD工艺的热处理。
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