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半导体光刻烤箱晶圆涂胶烤箱

半导体光刻烤箱晶圆涂胶烤箱

简要描述:

半导体光刻烤箱晶圆涂胶烤箱、光刻涂胶用烘箱是一种提供高温净化环境的特殊洁净烘干设备。箱内空气封闭自循环。经耐高温高效空气过滤器过滤,使烘箱工作室内处于无尘状态。

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半导体光刻烤箱晶圆涂胶烤箱、光刻涂胶用烘箱性能介绍

半导体光刻烤箱晶圆涂胶烤箱、光刻涂胶用烘箱

是一种提供高温净化环境的特殊洁净烘干设备。箱内空气封闭自循环。经耐高温高效空气过滤器过滤,使烘箱工作室内处于无尘状态。洁净烘箱工作室为光亮型全不锈钢结构。工作室内温度采用智能式数显温度控制仪进行自动控制P.I.D调节,数显时间控制,并设有断路及超温报警,操作方便,使用安全。
半导体光刻烤箱,晶圆涂胶烤箱、光刻涂胶用烘箱

可满足电子电器、医药、实验室等生产及科研部门中净化干燥。特殊要求温度可达350℃-400℃并且可加装氮气进出口。

、光刻涂胶用烘箱技术参数:      

1.内部尺寸:600*500*750(mm) (内尺寸可选择)

2.内箱分层:三层

3. 温度范围:RT+10℃~300℃。

4.温度波动:<±1℃。

5.温度均匀:±2%(空载测试)。

  依测规范:测SENSOR置放点,离内箱壁内尺寸1/10处。

6.温控装置:高精度P.I.D智能温控仪表, LED数字显示及设定、P.I.D自动演算、时间定时。

温控输出:SSR输出,品牌继电器,固态继电器。                    

测温装置:1支PT100 铂 电阻温度传感装置,测温精确。

气体控制装置:高效过滤气体中微粒。

7.内室材料:采用无磁性镜面不锈钢;外箱采用 SS41# 中碳钢板经磷酸皮膜盐处理后两层防光面涂装烤漆,可防止微尘(PARTICLE) 。

8.保温材质:硅酸铝。

9.特质复合式SUS304#不锈钢电热产生器。

保护装置:超温保护器,无熔丝开关。

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