前烘洁净烘箱，半导体工艺烤箱，用于半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃等材料涂胶前的预处理烘烤、涂胶后坚膜烘烤和显影后的高温烘烤，强制送风循环方式。
前烘洁净烘箱，半导体工艺烤箱
用于半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃等材料涂胶前的预处理烘烤、涂胶后坚膜烘烤和显影后的高温烘烤，强制送风循环方式。双风道循环结构，温度场分布均匀，智能P.I.D温控系统，得到zui高温度控制精度。无尘工业烤箱适用于电子液晶显示、LCD、CMOS、IS、医药、实验室等生产及科研部门。
前烘洁净烘箱，半导体工艺烤箱特点
1、内箱全部满焊，耐高温硅胶破紧，SUS304#不锈钢电热生产器，防机台本身所产生微尘；
2、采用进口SUS304#镜面不锈钢，并经碱性苏打水清洁，去油污避免烘烤时产生 PARTICLE；
3、平面水平由后向前送风后经进口过滤装置往前门(特殊风道设计)方向送风，过滤效率99.99%，Class 100,排气口φ50mm
技术参数
1、洁净烘箱满足ULSI工艺
2、洁净烘箱工作尺寸(mm):W600×H600×D500（可尺寸）
3、温度范围：60℃～300℃
4、洁净度：100/1000/10000级（可选择）
5、温度均匀性: ±1.5%（空载）
6、波 动 度：±0.5℃
7、电 源：380V 50Hz 7.5KW；
8、箱体材料：外箱采用高级冷轧板板经磷酸皮膜盐处理后两层防光面涂装烤漆，可防止微尘(PARTICLE),保温材料：超细玻璃棉；
9、 空气循环装置：大容量轴流电机；
10、加热方式：不锈钢电加热器；
11、温度测量传感器：Pt100 铂电阻；
12、控制仪表：进口数显温度控制器，PID调节，控制精度0.1℃；
13、超温保护仪表：独立于工作室主控制的超温保护系统，保证试验品的安全；
14、控制系统：主要电器件均采用正泰、欧姆龙等元器件；
15、排 气 口：ф50；
16、隔 板：2层，不锈钢方通，承重约30KG。
