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前烘洁净烘箱,半导体工艺烤箱

前烘洁净烘箱,半导体工艺烤箱

简要描述:

前烘洁净烘箱,半导体工艺烤箱,用于半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃等材料涂胶前的预处理烘烤、涂胶后坚膜烘烤和显影后的高温烘烤,强制送风循环方式。

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前烘洁净烘箱,半导体工艺烤箱

用于半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃等材料涂胶前的预处理烘烤、涂胶后坚膜烘烤和显影后的高温烘烤,强制送风循环方式。双风道循环结构,度场分布均匀,智能P.I.D温控系统,得到zui高温度控制精度。无尘工业烤箱适用于电子液晶显示、LCD、CMOS、IS、医药、实验室等生产及科研部门。

前烘洁净烘箱,半导体工艺烤箱特点

1、内箱全部满焊,耐高温硅胶破紧,SUS304#不锈钢电热生产器,防机台本身所产生微尘;

2、采用进口SUS304#镜面不锈钢,并经碱性苏打水清洁,去油污避免烘烤时产生 PARTICLE;

3、平面水平由后向前送风后经进口过滤装置往前门(特殊风道设计)方向送风,过滤效率99.99%,Class 100,排气口φ50mm

技术参数

1、洁净烘箱满足ULSI工艺

2、洁净烘箱工作尺寸(mm):W600×H600×D500(可指定尺寸)

3、温度范围:60℃~300℃

4、洁净度:100/1000/10000级(可选择)

5、温度均匀性: ±1.5%(空载)

6、波 动 度:±0.5℃

7、电    源:380V 50Hz  7.5KW;

8、箱体材料:外箱采用高级冷轧板板经磷酸皮膜盐处理后两层防光面涂装烤漆,可防止微尘(PARTICLE),保温材料:超细玻璃棉;  

9、 空气循环装置:大容量轴流电机;

10、加热方式:不锈钢电加热器;

11、温度测量传感器:Pt100 铂电阻;

12、控制仪表:进口数显温度控制器,PID调节,控制精度0.1℃;

13、超温保护仪表:独立于工作室主控制的超温保护系统,保证试验品的安全;

14、控制系统:主要电器件均采用正泰、欧姆龙等元器件;

15、排 气 口:ф50;

16、隔 板:2层,不锈钢方通,承重约30KG。 

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