产品中心您的位置:网站首页 > 产品中心 > HMDS烘箱 > HMDS预处理烘箱 > HMDS预处理烘箱价格
HMDS预处理烘箱价格

HMDS预处理烘箱价格

简要描述:

HMDS预处理烘箱价格:处理更加均匀,由于它是以蒸汽的形式涂布到晶片表面上,所以有液态涂布不可比拟更好的均匀性。

打印当前页

免费咨询:86-021-60649603

发邮件给我们:junsish@163.com

分享到:

HMDS预处理烘箱价格系统特点

1、预处理性能更好,由于是在经过数次的氮气置换再进行的HMDS处理,所以不会有尘埃的干扰,再者,由于该系统是将"去水烘烤"和HMDS处理放在同一道工艺,同一个容器中进行,晶片在容器里先经过100℃-160℃的去水烘烤,再接着进行HMDS处理,不需要从容器里传出,而接触到大气,晶片吸收水分子的机会大大降低,所以有着更好的处理效果。

2、处理更加均匀,由于它是以蒸汽的形式涂布到晶片表面上,所以有液态涂布不可比拟更好的均匀性。

3、效率高,液态涂布是单片操作,而本系统一次可以处理多达4盒的晶片。

4、更加节省药液,实践证明,用液态HMDS涂布单片所用的药液比用本系统处理4盒晶片所用药液还多;

5、 更加环保和安全,HMDS是有毒化学药品,人吸入后会出现反胃、呕吐、腹痛、呼吸道等,由于整个过程是在密闭的环境下完成的,所以不会有人接触到药液及其蒸汽,也就更加安全,它的尾气是直接由机械泵抽到尾气处理机,所以也不会对环境造成污染。

HMDS预处理烘箱价格必要性

在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。

必要性

增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。 

COPYRIGHT @ 2016 网站地图    沪ICP备16022591号-1   

上海隽思实验仪器有限公司主要经营优质的HMDS预处理烘箱价格等,欢迎来电咨询HMDS预处理烘箱价格详细资料等信息
地址:上海奉贤柘林工业区3213号