将HMDS涂到样品表面后,经烘箱加温可生成硅氧烷为主的化合物,将样品表面由亲水性变为疏水性,此疏水性能HMDS烘箱,hmds预处理烘箱够很好的与光刻胶结合,增加了样品表面与光刻胶的粘附作用。
将HMDS涂到样品表面后,经烘箱加温可生成硅氧烷为主的化合物,将样品表面由亲水性变为疏水性,此疏水性能够很好的与光刻胶结合,增加了样品表面与光刻胶的粘附作用。
HMDS烘箱,hmds预处理烘箱系统结构:
整个系统由加热、真空系统、充氮、加药和控制模块等5部分组成
加热模块
由于工艺的整个过程都需要在150℃左右的环境下进行,所以自始至终加热系统都在工作。
本系统采用在腔内分布两块独立的热板来实现加热,每个热板都采用人工智能PID调节仪实现闭环控制,调节仪控制固态继电器的输出从而实现温度的精确稳定控制,测温采用通用的高精度热敏电阻Pt100。
真空模块
由机械泵、真空组件、真空测量等组成,主要作用是置换气体和抽走剩余HMDS蒸汽。
充氮模块
作用是在置换过程中,用氮气来逐渐稀释空气或药液蒸汽,从而zui终替换空气或药液蒸汽的气氛。
主要由氮气源、控制阀和喷头组成。
HMDS烘箱,hmds预处理烘箱控制模块
控制模块是本系统的核心模块,它的作用是控制各个模块的动作和时序,完成整个工艺过程。它主要由人机界面,CPU控制中心,控制接口和输出部件,报警等5部分组
成。
人机界面采用φ100mm松下触摸屏来实现参数、状态等界面的显示和参数的设定输入。PLC采用松下的FP0系列小型化PLC。
软件组成
整个控制软件共分4个部分,即自动运行、手动控制、参数设定、帮助。
当按下自动运行键后,画面转换到运行画面,显示当前的工艺状态,运行时间等,同时系统开始运行。