将HMDS涂到样品表面后，经烘箱加温可生成硅氧烷为主的化合物，将样品表面由亲水性变为疏水性，此疏水性能HMDS烘箱，hmds预处理烘箱够很好的与光刻胶结合，增加了样品表面与光刻胶的粘附作用。

将HMDS涂到样品表面后，经烘箱加温可生成硅氧烷为主的化合物，将样品表面由亲水性变为疏水性，此疏水性能够很好的与光刻胶结合，增加了样品表面与光刻胶的粘附作用。

HMDS烘箱，hmds预处理烘箱系统结构：

整个系统由加热、真空系统、充氮、加药和控制模块等5部分组成

加热模块

    由于工艺的整个过程都需要在150℃左右的环境下进行，所以自始至终加热系统都在工作。

    本系统采用在腔内分布两块独立的热板来实现加热，每个热板都采用人工智能PID调节仪实现闭环控制，调节仪控制固态继电器的输出从而实现温度的精确稳定控制，测温采用通用的高精度热敏电阻Pt100。

真空模块

   由机械泵、真空组件、真空测量等组成，主要作用是置换气体和抽走剩余HMDS蒸汽。

充氮模块

   作用是在置换过程中，用氮气来逐渐稀释空气或药液蒸汽，从而zui终替换空气或药液蒸汽的气氛。

   主要由氮气源、控制阀和喷头组成。

HMDS烘箱，hmds预处理烘箱控制模块

    控制模块是本系统的核心模块，它的作用是控制各个模块的动作和时序，完成整个工艺过程。它主要由人机界面，CPU控制中心，控制接口和输出部件，报警等5部分组

成。

  人机界面采用φ100mm松下触摸屏来实现参数、状态等界面的显示和参数的设定输入。PLC采用松下的FP0系列小型化PLC。

软件组成

整个控制软件共分4个部分，即自动运行、手动控制、参数设定、帮助。

当按下自动运行键后，画面转换到运行画面，显示当前的工艺状态，运行时间等，同时系统开始运行。