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HMDS镀膜烤箱,HMDS真空镀膜系统

HMDS镀膜烤箱,HMDS真空镀膜系统

简要描述:

HMDS镀膜烤箱,HMDS真空镀膜系统预处理性能更好,更加均匀;效率高,一次可以处理多达4盒的晶片;更加节省药液;低液报警、防药液泄漏等具有很强的安全保护功能;,有可自动吸取添加HMDS功能,智能型的程式设定,一键完成作业。

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HMDS镀膜烤箱,HMDS真空镀膜系统的重要性:
  光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。  在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。


HMDS镀膜烤箱,HMDS真空镀膜系统主要技术性能:

电源电压:AC 220V±10%/50Hz±2%

输入功率:2500W

控制方式:PLC+人机界面,自动和手动

控温范围:RT+10℃-250℃

温度分辨率:0.1℃

温度波动度:±0.5℃,升温速率可控

达到真空度:133Pa(1torr),全程可监控

工作室尺寸(mm):450*450*450、350*350*350(可自定义)


的优越性:

预处理性能更好,更加均匀;效率高,一次可以处理多达4盒的晶片;更加节省药液;低液报警、防药液泄漏等具有很强的安全保护功能;,有可自动吸取添加HMDS功能,智能型的程式设定,一键完成作业。

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