HMDS镀膜机通过对烘箱预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数的控制可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。
HMDS镀膜机
通过对烘箱预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数的控制可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。
HMDS镀膜机
1)设备外壳采用医用级不锈钢304不锈钢材质制作，内胆为不锈钢316L材料制成；采用C型不锈钢加热管,均匀分布在内胆外壁，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置；采用钢化、防双层玻璃观察窗,便于观察工作室内物品实验情况。2)箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内保持高真空度。3)采用微电脑PID控制,系统具有自动控温,定时,超温报警等,采用LCD液晶显示,触摸式按钮,简单易用,性能稳定.4)智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序、温度、真空度及每一程序时间。5)HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，使真空箱密封性能*，确保HMDS气体无外漏顾虑。6)整个系统采用优质医用级316L不锈钢材料制作，无发尘材料，适用百级光刻间净化环境。技术参数
| 1、设备名称 |
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| 2、设备型号 | JS-HMDS90 |
| 3、设备主要技术参数 | |
| 3.1 工作室尺寸 | 450×450×450（mm） 可选其他数据 |
| 3.2 材质 | 外箱采用304不锈钢，内箱采用316L医用级不锈钢 |
| 3.3 温度范围 | RT+10-250℃ |
| 3.4 温度分辨率 | 0.1℃ |
| 3.5 温度控制精度 | ±0.3% |
| 3.6 真空度 | ≤133pa（1torr） |
| 3.7 洁净度 | class 100，设备采用无尘材料，适用100级光刻间净化环境 |
| 3.8电源及总功率 | AC 220V±10% / 50HZ 总功率约2.0KW |
| 3.9 控制仪表 | 人机界面 |
| 3.10搁板层数 | 2层 |
| 3.11 HMDS流量控制 | 可控制HMDS流量 |
| 3.11真空泵 | 油泵或干泵 |
| 3.12 保护装置 | 漏电保护，过热保护 |
