产品中心您的位置:网站首页 > 产品中心 > HMDS烘箱 > HMDS镀膜机 > HMDS涂胶机,智能型HMDS涂 胶机
HMDS涂胶机,智能型HMDS涂 胶机

HMDS涂胶机,智能型HMDS涂 胶机

简要描述:

HMDS涂胶机,智能型HMDS涂 胶机将HMDS涂到半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。

打印当前页

免费咨询:86-021-31283292

发邮件给我们:junsish@163.com

分享到:

HMDS涂胶机,智能型HMDS涂 胶机的重要性

   在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。

HMDS涂胶机,智能型HMDS涂 胶机技术性能

工作室: 450×450×450(mm),定制

材质:外箱采用优质冷轧板喷塑,内箱采用316L医用级不锈钢

温度范围:RT+10-250℃

温度分辨率:0.1℃

温度波动度:≤±0.5

真空度: ≤133pa(1torr)

洁净度:class 100,设备采用无尘材料,适用100级光刻间净化环境

电源及总功率:AC 220V±10% / 50HZ       总功率约3.0KW    

控制仪表:人机界面

HMDS控制:可控制HMDS药夜添加量

真空泵:无油泵

保护装置:

HMDS药液泄漏提示装置

HMDS低液位提示警

HMDS自动添加

漏电保护

超温保护

程序自锁保护

   




COPYRIGHT @ 2016 网站地图    沪ICP备16022591号-1   

上海隽思实验仪器有限公司主要经营优质的HMDS涂胶机,智能型HMDS涂 胶机等,欢迎来电咨询HMDS涂胶机,智能型HMDS涂 胶机详细资料等信息
地址:上海奉贤柘林工业区3213号