产品中心您的位置:网站首页 > 产品中心 > 半导体烘烤设备 > 真空烤箱 > 小型蒸发镀膜仪,实验室气相沉积设备
小型蒸发镀膜仪,实验室气相沉积设备

小型蒸发镀膜仪,实验室气相沉积设备

简要描述:

小型蒸发镀膜仪,实验室气相沉积设备 用于真空蒸发镀光学薄膜、有机物薄膜和金属薄膜、在衬底上沉积各单层金属 膜,主要用于蒸镀电极及有机半导体材料的物理化学性能研究实验研究 。特别适合于高科技企业、科研单位和高校用于膜层研究和膜系开发。

打印当前页

免费咨询:86-021-31283292

发邮件给我们:junsish@163.com

分享到:

小型蒸发镀膜仪,实验室气相沉积设备用途

   用于真空蒸发镀光学薄膜、有机物薄膜和金属薄膜、在衬底上沉积各单层金属 膜,主要用于蒸镀电极及有机半导体材料的物理化学性能研究实验研究 。特别适合于高科技企业、科研单位和高校用于膜层研究和膜系开发。


小型蒸发镀膜仪,实验室气相沉积设备主要技术参数         

                                                 

真空腔室尺寸:Φ300*H400mm,预留膜厚仪接口304不锈钢材料,圆柱式,门上配有观察窗;  

真空系统 分子泵 +直联旋片泵+高真阀门; “一低一高"数显复合真空计;

极限真空 真空极限优于 5×10-5Pa 

温度范围 RT-600/1600℃,可调可控;

基片台尺寸最大可镀基片尺寸/面积:Φ100mm 范围内可装卡各种规格配 套相应样品架可固定各类不锈钢掩膜板。

基片台旋转:0-20 /分钟,可调可控;

蒸发源及电源水冷蒸发电极金属蒸发电源;

控制方式PLC+触摸屏,自动控制;

报警及保护对泵、电极等缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警并执行相应保护措施;完善的逻辑程序互锁保护系统;

设备配电 AC220V/50HZ ,功率:3.5KW

设备尺寸×宽×高:500*360*420mm


COPYRIGHT @ 2016 网站地图    沪ICP备16022591号-1   

上海隽思实验仪器有限公司主要经营优质的小型蒸发镀膜仪,实验室气相沉积设备等,欢迎来电咨询小型蒸发镀膜仪,实验室气相沉积设备详细资料等信息
地址:上海奉贤柘林工业区3213号