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HMDS真空烤箱的特点

发布时间:2013-09-10   点击次数:3418次

HMDS真空烤箱的特点
  来源: 上海隽思实验仪器有限公司

一、HMDS真空烘箱技术参数:

电源电压:AC 220V±10%/50Hz±2%

输入功率:2400W

控温范围:室温+10-250

温度分辨率:0.1

温度波动度:±0.5

达到真空度:133Pa

容积:90L

工作室尺寸(mm):450*450*450(可选择)

载物托架:2

二、HMDS真空烤箱的使用优点

1、JS-HMDS真空烤箱预处理性能更好,由于是在经过数次的氮气置换再进行的HMDS处理,所以不会有尘埃的干扰,再者,由于该系统是将"去水烘烤"和HMDS处理放在同一道工艺,同一个容器中进行,晶片在容器里先经过100℃-200℃的去水烘烤,再接着进行HMDS处理,不需要从容器里传出,而接触到大气,晶片吸收水分子的机会大大降低,所以有着更好的处理效果。

2、处理更加均匀,由于它是以蒸汽的形式涂布到晶片表面上,所以有液态涂布不可比拟更好的均匀性。

3、效率高,液态涂布是单片操作,而本系统一次可以处理多达4盒的晶片。

4、更加节省药液,实践证明,用液态HMDS涂布单片所用的药液比用本系统处理4盒晶片所用药液还多;

5、更加环保和安全,HMDS是有毒化学药品,人吸入后会出现反胃、呕吐、腹痛、刺激胸部、呼吸道等,由于整个过程是在密闭的环境下完成的,所以不会有人接触到药液及其蒸汽,也就更加安全,它的尾气是直接由机械泵抽到尾气处理机,所以也不会对环境造成污染。

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