光伏电池片HMDS处理系统，HMDS预处理烘箱就是涂胶前要进行增粘处理。由于衬底表面吸水特性，使疏水的光刻胶无法与亲水的晶圆表面结合良好。未经过HMDS表面处理的晶圆在后道工艺中容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。

光伏电池片HMDS处理系统，HMDS预处理烘箱的作用：

  电池片制备是光伏电池片生产中的核心环节，主要包括光刻、扩散、沉积和金属化等工艺步骤

1.光刻:光刻工艺主要利用光刻胶和掩膜将所需的电极图案投影到硅片表面，并通过曝光和显影等过程形成图案。

2.扩散:扩散工艺通过高温将掺杂物(如磷或硼)注入硅片中，形成PN结构，从而使其具有正负电荷分离的能力。

3.沉积:沉积工艺主要是在硅片表面进行氧化、硝化或硫化等处理，形成适当的电池片表面结构和保护层

4.金属化:金属化工艺将电极材料(如铝或银)通过蒸镀、溅射或印刷等方法沉积在电池片表面作为电流收集和传输的导体。

    光刻中第一步需要表面预处理，就是涂胶前要进行增粘处理。由于衬底表面吸水特性，使疏水的光刻胶无法与亲水的晶圆表面结合良好。未经过HMDS表面处理的晶圆在后道工艺中容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。

光伏电池片HMDS处理系统，HMDS预处理烘箱技术参数

主要方法：气相沉积

工艺步骤：HMDS烘箱在高温条件下，达到真空状态后开始涂布工艺，涂布完成后烘箱内部充入N2，排出尾气，达到常压后方可开门。

温度范围：RT+10-200℃

真空度：≤1torr

控制仪表：人机界面，自动运行

储液瓶：标配 

真空泵：无油涡旋真空泵

数据处理：多个工艺方案，可修改并记录，使用数据可记录

保护装置： 低液位报警，HMDS药液泄漏报&警，超温保护并断开加热，漏电保护，过流保护等