HMDS烘箱，太阳能电池片HMDS烘箱适用行业：MEMS、太阳能、电池片、滤波、放大、功率等器件，晶圆、玻璃、贵金属，SiC(碳化硅)、GaN(氮化镓)、ZnO（氧化锌）、GaO（氧化镓）、金刚石等第三代半导体材料。

HMDS烘箱，太阳能电池片HMDS烘箱简介

光伏刻蚀是太阳能电池制造过程中的重要环节，下面是一般光伏刻蚀工艺的流程：

1. 表面准备：可以采用清洗溶液、酸洗、超声波清洗等方式。

2. 光罩/掩膜涂覆：在光伏刻蚀中，需要使用光罩或掩膜来保护不需要刻蚀的区域。光

3. 刻蚀：具体刻蚀条件（如刻蚀液的浓度、温度、刻蚀时间等）会根据电池设计和制造要求进行控制。

4. 刻蚀后处理：后处理可能包括漂洗、清洗、脱罩等步骤，以确保电池片的质量和可靠性。

5. 光伏电池制造其他工艺：刻蚀只是太阳能电池制造的一部分，之后还需要进行光伏电池的其他工艺。

HMDS烘箱，太阳能电池片HMDS烘箱用途

光刻蚀刻加工的基本原理：

1. 光敏材料涂覆：首先，在待加工的基底表面涂覆一层光敏感材料（例如光刻胶）。该材料对于特定波长的光会发生化学或物理变化。涂覆的光敏材料形成了一个称为“光刻胶层"的薄膜。

2. 光罩设计和准备

3. 曝光

4. 图案形成

5. 刻蚀。

然而在光敏材料涂覆前需要将电池片基底做疏水性处理，该处理工艺需要借助HMDS增粘剂。一般通过气相沉积的方法将HMDS处理在衬底表面。该设备为上海隽思HMDS烘箱

HMDS烘箱的性能：

温度范围：RT+10-200℃

真空度：≤1torr

操作界面：人机界面

工艺编辑：可储存5个配方

气体：N2进气阀，自动控制

容积：定制

产品兼容性：2~12寸晶圆及碎片、方片等

适用行业：MEMS、太阳能、电池片、滤波、放大、功率等器件，晶圆、玻璃、贵金属，SiC(碳化硅)、GaN(氮化镓)、ZnO（氧化锌）、GaO（氧化镓）、金刚石等第三代半导体材料。