HDMS烘箱 HDMS真空烘箱 HDMS预处理烘箱保护装置:紧急停止,HMDS药液泄漏报&警提示,HMDS低液位报&警,超温保护,漏电保护,过热保护等
HDMS烘箱 HDMS真空烘箱 HDMS预处理烘箱技术参数
容量:2-12寸晶圆、方片、碎片等
材质:内箱采用316L医用级不锈钢
工艺温度:80-150℃
温度分辨率:0.1℃
温度波动度:≤±0.5
真空度:≤1torr
操作界面:人机界面,一键作业
腔内分层:1-4层
工艺单元:5个工艺单元可保存
图像处理:图像反转
真空泵: 进口无油泵
保护装置:紧急停止,HMDS药液泄漏报&警提示,HMDS低液位报&警,超温保护,漏电保护,过热保护等
HDMS烘箱 HDMS真空烘箱 HDMS预处理烘箱应用
1、单晶硅片
目前较多的衬底材料,广泛用于制造集成电路(IC)、微处理器、存储器、MEMS器件、功率器件等
2、SOI衬底
用于高性能、低功耗的集成电路,如高频模拟和数字电路、RF器件和电源管理芯片。
3、SiGe衬底
SiGe ,锗硅,是一种硅和锗任意摩尔比的合金,分子式为 Si 1− x Ge x,常用外延的方式制作。用于异质结双极晶体管,混合信号电路,射频等领域
4、化合物半导体衬底
砷化镓衬底(GaAs ):微波和毫米波通信器件等
氮化镓衬底(GaN ):用于射频功率放大器,HEMT等
碳化硅衬底(SiC ):用于电动汽车、电源转换器等电力器件
磷化铟衬底(InP ):用于激光器、光探测器等
5、蓝宝石衬底:用于LED制造、RFIC(射频集成电路)等
6、锗衬底:用于红外光电器件等
7、LN(铌酸锂):用于声表滤波器,mems等
8、LT(钽酸锂):用于声表滤波器,mems等
9、玻璃基板:用于LCD、OLED、光学滤波器等
等等