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氮气洁净烘箱 光刻胶无尘烘箱 百级烘箱 适用于IC封装、光刻胶固化、银胶固化、电子液晶显示、LCD、CMOS、MEMS、医药、实验室等生产及科研.
产品型号：JS-厂商性质：生产厂家更新时间：2025-09-17访 问 量：1406
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氮气洁净烘箱 光刻胶无尘烘箱 百级烘箱工艺
不同的匀胶转速，对应不同的光刻胶厚度，厚度越大，由于曝光的穿透深度以及光的衍射，光刻的分辨率就会越低，并且会在光刻胶侧壁形成明显的梯形。厚度太薄的话，在刻蚀的时候会被刻穿，要根据需要刻蚀的深度选择合适的光刻胶厚度，从而选择合适的转速
在匀胶结束后，使用温度95°烘5min来提高光刻胶的致密性以及与晶圆的粘附性。
氮气洁净烘箱 光刻胶无尘烘箱 百级烘箱指标
洁净度：Class100、1000
温度：RT+15～200/300/400℃；
气体：N2
计时功能：可选
设备材质：内部SUS304不锈钢
工作尺寸（mm）：
450×450×500
500×500×550
600×700×800
（可定制）
网板：活动式2-5块
运行模式：定值或程式
操作界面：按键或彩色触摸屏
氮气洁净烘箱 光刻胶无尘烘箱用途
适用于IC封装、光刻胶固化、银胶固化、电子液晶显示、LCD、CMOS、MEMS、医药、实验室等生产及科研.
驱赶胶中的溶剂
提高胶对衬底的黏附性
提高胶的抗腐蚀能力
优化胶的光学吸收特性
提高涂胶的均匀性
提高条宽控制能力
通过前烘，基片上的光刻胶基本固化。
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