硅片光刻预处理系统，芯片hmds烘箱用在芯片、晶圆、硅片等半导体在光刻前对wafer进行预处理,在高温高真空的状态下均匀喷洒雾状“OAP”药液并在氮气保护下烘干以增强wafer的光刻性能。

前烘洁净烘箱，软烘充氮烘箱涂胶后，晶片须经过一次烘烤，称之软烘或前烘。工艺作用是除去胶中大部分溶剂并使胶的曝光特性固定。通常，软烘时间越短或温度越低会使得胶在显影剂中的溶解速率增加且感光度更高。

晶圆洁净烘箱，光刻硬烘烤箱洁净度100级的洁净热处理HEPA过滤器与前出风型水平层流循环方式实现并保证箱内的温度分布的均匀性与100级洁净度。Z小限度控制风速距离。

无氧烘箱、防氧化烤箱无氧烘箱，在工作时，工作室内充满了惰性气体CO2,N2,防止材料在烘烤时被氧化。无氧化烘箱在工业中的用途：IC包装，LCD,晶体管，传感器，二极管，石英晶体振荡器，混合集成电路板。

无氧烤箱，厌氧烘箱广泛用于航天、石油、化工、电子、通讯等科研及生产单位做材料、零件、设备等的高温洁净和无氧干燥及老化试验。

无尘洁净烤箱，精密洁净烘箱用于半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃等材料涂胶前的预处理烘烤、涂胶后坚膜烘烤和显影后的高温烘烤；也适用于电子液晶显示、LCD、CMOS、IS、医药、实验室等生产及科研部门

光刻胶高温固化烤箱，半导体高温烤箱适用于触摸屏、晶圆、LED、PCB板、ITO玻璃等精密电子、太阳能、新材料等行业。应用于精密电子元件、光刻胶固化、电子陶瓷材料无尘烘干的特殊工艺要求，箱内空气封闭自循环，经耐高温高效空气过滤器（100级）反复过滤，使烘箱工作室内处于无尘状态。无尘烤箱工作室为不锈钢结构。