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坚膜烘箱,真空坚膜烤箱

坚膜烘箱,真空坚膜烤箱

简要描述:

坚膜烘箱,真空坚膜烤箱用于半导体制造中半导体衬底片、硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃等材料显影后坚膜烘烤;也适用于涂胶前的预处理烘烤、涂胶后坚膜烘烤和显影后的高温烘烤以及电子液晶显示、LCD、CMOS、IS、医药、实验室等生产及科研部门。

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坚膜烘箱,真空坚膜烤箱的用途:

   坚膜烘箱用于半导体制造中半导体衬底片、硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃等材料显影后坚膜烘烤;也适用于涂胶前的预处理烘烤、涂胶后坚膜烘烤和显影后的高温烘烤以及电子液晶显示、LCD、CMOS、IS、医药、实验室等生产及科研部门。

1、完全蒸发掉光刻胶里面的溶剂(以免在污染后续的离子注入环境,例如DNQ酚醛树脂光刻胶中的氮会引起光刻胶局部爆裂);

2、以提高光刻胶在离子注入或刻蚀中保护下表面的能力;

3、进一步增强光刻胶与硅片表面之间的黏附性;

4、进一步减少驻波效应。

坚膜烘箱,真空坚膜烤箱主要参数:

洁净度:百级;

电源电压:AC 220V±10%/50Hz±2%

输入功率:2000W

温度范围:RT+10℃-250℃

温度分辨率:0.1℃

温度波动度:±0.5℃

达到真空度:133Pa(可选择热风循环烤箱)

工作室尺寸(mm):450*450*450

搁板层数:2层

设备采用先进成熟的设计思想,制造技术。
设备在具有优良的品质,即可靠性要高,使用寿命长。
设备具有良好的操作性,方便的维修性,可靠的安全性。

使用注意事项:

1、烘烤不足,会减弱光刻胶的强度(抗刻蚀能力和离子注入中的阻挡能力);降低针孔填充能力;降低与基底的黏附能力。

2、烘烤过度,引起光刻胶的流动,使图形精度降低,分辨率变差。

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