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HMDS烘箱真空泵,HMDS系统用油泵

HMDS烘箱真空泵,HMDS系统用油泵

简要描述:

HMDS烘箱真空泵,HMDS系统用油泵在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。

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HMDS烘箱真空泵,HMDS系统用油泵简介

HMDS烘箱真空泵,HMDS系统用油泵广泛应用于制冷、电子、化工、医药、食品及科研所实验室的设备和自动生产线上。先进的设计理念加工更加合理的加工工艺,使各项性能指标都达到了JB/T53017-92一等品标准,其性价比在同行业中。

技术参数

型号

DM2

DM4

DM8

DM15

抽气速率(L/S)

2

4

8

15

极限分压强(Pa)

气镇关

≤4×10-2

≤4×10-2

≤4×10-2

≤4×10-2

气镇开

≤8×10-2

≤8×10-2

≤8×10-2

≤8×10-2

极限总压强(Pa)

气镇关

≤5×10-1

≤5×10-1

≤5×10-1

≤5×10-1

气镇开

≤1

≤1

≤1

≤1

噪声LP/LW

52/63

54/65

   58/71

59/72

水蒸气抽除率(L/h)

360

520

600

1200

进气口直径

DN25ISOKF

DN25ISOKF

DN40ISOKF

DN40ISOKF

排气口直径

DN25ISOKF

DN25ISOKF

DN40ISOKF

DN40ISOKF

zui高油面工作温度

80

85

125

130

用油量(L)

1.1

1.5

3.4

4.5

转速r/min

1400

1430

1400

1420

电动机功率(kw)

0.37

0.55

1.1

1.5

重量(kg)

27

36

60

70

外形尺寸(mm)

510×174×274

550×174×274

635×236×383

695×236×383

 

智能型HMDS烘箱,全自动HMDS预处理系统的重要性:
  光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。 在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。

智能型HMDS烘箱,全自动HMDS预处理系统主要技术性能:

电源电压:AC 220V±10%/50Hz±2%

输入功率:2500W

控温范围:RT+10℃-250℃

温度分辨率:0.1℃

温度波动度:±0.5℃

达到真空度:133Pa(1torr)

工作室尺寸(mm):450*450*450、350*350*350(可自定义)

智能型HMDS烘箱,全自动HMDS预处理系统的优越性:

预处理性能更好,更加均匀;效率高,一次可以处理多达4盒的晶片;更加节省药液;低液报警、防药液泄漏等具有很强的安全保护功能;,有可自动吸取添加HMDS功能,智能型的程式设定,一键完成作业

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