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硅片充氮烘箱,无氧充氮烤箱

硅片充氮烘箱,无氧充氮烤箱

简要描述:

硅片充氮烘箱,无氧充氮烤箱是一种提供高温净化环境的特殊洁净烘干设备.洁净烘箱适用于电子液晶显示、LCD、CMOS、IC、医药、实验室等生产及科研部门。

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硅片充氮烘箱,无氧充氮烤箱概述

硅片充氮烘箱,无氧充氮烤箱是一种提供高温净化环境的特殊洁净烘干设备。箱内空气封闭自循环。烘箱工作室为光亮型全不锈钢结构。工作室内温度采用智能式数显温度控制仪进行自动控制P.I.D调节,数显时间控制,并设有断路及超温报警,操作方便,使用安全。 充氮烤箱可满足电子电器、医药、实验室等生产及科研部门中净化干燥。特殊要求温度可达350℃-400℃并且可加装氮气进出口。

硅片充氮烘箱,无氧充氮烤箱用途

洁净烘箱适用于电子液晶显示、LCD、CMOS、IC、医药、实验室等生产及科研部门。

硅片充氮烘箱,无氧充氮烤箱技术参数

Ø  温控输出:SSR输出,品牌继电器,固态继电器。                   

Ø  测温装置:PT100 铂 电阻温度传感装置,测温精确。

Ø  内室材料:采用无磁性不锈钢;外箱采用 SS41# 中碳钢板经磷酸皮膜盐处理后两层防光面涂装烤漆,可防止微尘(PARTICLE) 。

Ø  保温材料:玻璃纤维。

Ø  保护装置:超温保护器,无熔丝开关。

Ø  流 量 计:氮气专用转子流量计

 

 

无氧烘箱

一. 概述

无氧化烘箱,在工作时,工作室内充满了惰性气体CO2,N2,防止材料在烘烤时被氧化。无氧化烘箱在工业中的用途:IC包装,LCD,晶体管,传感器,二极管,石英晶体振荡器,混合集成电路板……

二.技术参数

1、主要技术指标

Ø  含氧量:< 100ppm;

Ø  温度范围: RT(室温)+10~ +200℃;

Ø  温度均匀度:±1℃;

Ø  温度波动度:±0.5℃(空载)

Ø  温控精度:0.1℃;

Ø  烘箱搁板为活动形式。

 

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