半导体充氮烘箱，氮气烤胶烘箱用于半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃等材料涂胶前的预处理烘烤、涂胶后坚膜烘烤和显影后的高温烘烤
半导体充氮烘箱，氮气烤胶烘箱
精密烘箱用于半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃等材料涂胶前的预处理烘烤、涂胶后坚膜烘烤和显影后的高温烘烤；也适用于电子液晶显示、LCD、CMOS、IS、医药、实验室等生产及科研部门；也可用于非挥发性及非易燃易爆物品的干燥、热处理、老化等其他高温试验。
半导体充氮烘箱，氮气烤胶烘箱
2.1温度范围： RT+10～250℃；
2.2温度均匀度：≤±1.5%℃；
2.3升温速度：0-5℃/min；
2.4洁净度：无发尘材料，可达使用环境洁净等级；
2.5工作尺寸：D450×W450×H450mm，D500×W600×H750mm；多尺寸定制
2.6电源：AC220V/50HZ, 4.0KW ；
2.7 计时功能：具有独立的计时器，计时复位开关，计时报警器；
2.8 进气口：φ6mmN2进气、流量计控制0-250ML可调；
2.9 安全保护功能：超温保护，电机过热保护，过流保护，电磁门锁（防止高温开门），三色灯指示。
氮气烤胶烘箱是一种提供高温净化环境的特殊洁净烘干设备。烘箱内部整机为不锈钢结构，全部采用无尘材料，箱内持续充氮，使烘箱工作室内处于洁净状态。工作室内温度由温控仪自动控制，并有自动恒温及时间控制装置，并附设有超温自动停电及报警电路，控制可靠，使用安全。
