半导体充氮烘箱,氮气烤胶烘箱用于半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃等材料涂胶前的预处理烘烤、涂胶后坚膜烘烤和显影后的高温烘烤
半导体充氮烘箱,氮气烤胶烘箱
精密烘箱用于半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃等材料涂胶前的预处理烘烤、涂胶后坚膜烘烤和显影后的高温烘烤;也适用于电子液晶显示、LCD、CMOS、IS、医药、实验室等生产及科研部门;也可用于非挥发性及非易燃易爆物品的干燥、热处理、老化等其他高温试验。
半导体充氮烘箱,氮气烤胶烘箱
2.1温度范围: RT+10~250℃;
2.2温度均匀度:≤±1.5%℃;
2.3升温速度:0-5℃/min;
2.4洁净度:无发尘材料,可达使用环境洁净等级;
2.5工作尺寸:D450×W450×H450mm,D500×W600×H750mm;多尺寸定制
2.6电源:AC220V/50HZ, 4.0KW ;
2.7 计时功能:具有独立的计时器,计时复位开关,计时报警器;
2.8 进气口:φ6mmN2进气、流量计控制0-250ML可调;
2.9 安全保护功能:超温保护,电机过热保护,过流保护,电磁门锁(防止高温开门),三色灯指示。
氮气烤胶烘箱是一种提供高温净化环境的特殊洁净烘干设备。烘箱内部整机为不锈钢结构,全部采用无尘材料,箱内持续充氮,使烘箱工作室内处于洁净状态。工作室内温度由温控仪自动控制,并有自动恒温及时间控制装置,并附设有超温自动停电及报警电路,控制可靠,使用安全。