曝光后烤胶台/洁净烘箱PEB烘烤的目的

　　光刻胶在曝光完成后，光刻胶需要经过再一次烘烤，因为这次烘烤在曝光后，所以称为“曝光后烘烤”，简称后烘或坚膜，英文为Post Exposure Bake(PEB)。
 

　　曝光后烤胶台/洁净烘箱PEB烘烤的目的--通过加热的方式，使得光化学反应能够充分完成。
 

　　对于酚醛树脂体系的光刻胶，PEB可以扩散感光剂以消除驻波效应。并且，PEB温度不同时，感光剂的扩散距离不同，消除驻波的效果也不一样。PEB在110度时，消除驻波效应明显。
 

　　对于化学放大型光刻胶，在后烘过程中，光酸起到催化光刻胶树脂的去保护反应(Deprotection Reaction)，又称为脱保护反应。

　　大量实验表明，烤胶台烘烤温度的起伏是影响线宽均匀性的主要因素之一。在设置后烘工艺时， 对热盘温度均匀性的要求一般比软烘的要求更高。
 

　　烤胶台/洁净烘箱PEB烘烤性能
 

　　智能型烤胶机
 

　　加热尺寸：220*220mm(可定制),适用于Ø200毫米(8英寸)圆片或200x 200毫米方片以下尺寸产品；
 

　　温度范围：RT～300°C
 

　　温度精度：0.1°C；
 

　　温度均匀性：≤±0.5℃；
 

　　电动顶针调节高度: 0～30mm；
 

　　加热台表面：耐腐蚀硬质阳极氧化铝制成；
 

　　控制器单元：7寸全彩触摸屏，高级PLC控制，实现在特定时间内自动升降，可以定时取片；
 

　　洁净烘箱
 

　　无尘等级：Class100;
 

　　温度范围：RT～300/450℃；
 

　　温度均匀度：200℃±3℃;
 

　　温度波动度：±0.5℃(空载)
 

　　工作尺寸(mm)：
 

　　450×450×450
 

　　500×500×500
 

　　600×700×800(可定制)
 

　　可扩展功能：
 

　　氧浓度检测，无尘无氧烘箱
 

　　智能联网功能，MES等工业自动化软件
 

　　扫码枪，扫码溯源，一键读取
 

　　自动门控，上位机程控，机械手搬运产品