24小时销售热线

18016281599

产品中心

我的位置:首页  >  产品中心  >  HMDS烘箱  >  HMDS预处理系统  >  JS-MOL00HMDS烘箱 图像反转系统 HMDS涂胶机
HMDS烘箱 图像反转系统 HMDS涂胶机

HMDS烘箱 图像反转系统 HMDS涂胶机使用HMDS(六甲基二硅氮烷)对晶圆表面进行快速、均匀、经济高效的涂布,以提高光刻胶的附着力。这些多功能系统还支持图像反转,形成具有与正光刻胶相同的分辨率和易用性的负图像。

  • 产品型号:JS-MOL00
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2025-09-17
  • 访  问  量:1617
立即咨询

联系电话:021-31434441

产品详情

HMDS烘箱  图像反转系统 HMDS涂胶机用途

  使用HMDS(六甲基二硅氮烷)对晶圆表面进行快速、均匀、经济高效的涂布,以提高光刻胶的附着力。这些多功能系统还支持图像反转,形成具有与正光刻胶相同的分辨率和易用性的负图像。

HMDS烘箱  图像反转系统 HMDS涂胶机应用行业

MEMS系统

CVD薄膜;

光刻

用于光刻胶附着力的 HMDS 

作为聚合物和基材之间的粘合层

作为印章和聚合物材料之间的非常薄和保形的离型层;

喷墨

防止墨水积聚在喷嘴面板上,确保墨水流动不受限制;

生物MEMS

亲水性和生物相容性CVD薄膜可用于改善润湿性,或防止蛋白质吸收,或减少器件性能的“漂移"

微阵列芯片的硅烷/底物粘附:DNA、基因、蛋白质、抗体、组织;

光学和 AR/VR 应用

修改光学特性

创建纳米压印层或钝化层;

图像反转

金属剥离工艺,用于WLP、RDL和掩模制造操作中的无蚀刻工艺;

HMDS烘箱  图像反转系统 六甲基二硅氮烷涂胶机技术性能

    材质:内箱采用316L级不锈钢

    工艺温度:100-150℃

    温度分辨率:0.1℃

    温度波动度:≤±0.5

    真空度:≤133pa(1torr)

    操作界面:人机界面,一键作业

    层数:2层

    HMDS控制:可控制HMDS药液的添加量

    图像处理:图像反转

    真空泵: 进口无油泵

    保护装置:紧急停止,HMDS药液泄漏报&警提示,HMDS低液位报&警,超温保护,漏电保护,过热保护等


在线咨询

留言框

  • 产品:

  • 您的单位:

  • 您的姓名:

  • 联系电话:

  • 常用邮箱:

  • 省份:

  • 详细地址:

  • 补充说明:

  • 验证码:

    请输入计算结果(填写阿拉伯数字),如:三加四=7
  • 电话:TEL

    021-31434441

  • 邮箱:EMAIL

    junsish@163.com

  • 传真:FAX

    86-021-60649603

版权所有© 2026 上海隽思实验仪器有限公司 All Rights Reserved     备案号:沪ICP备16022591号-1

技术支持:环保在线     管理登录     sitemap.xml

TEL:021-31434441

扫码添加微信