HMDS真空系统 HMDS预处理系统 图像反转烘箱可快速、均匀、经济高效地用六甲基二硅烷 (HMDS) 对晶圆表面进行底漆处理，从而改善光刻胶的附着力。

HMDS真空系统 HMDS预处理系统 图像反转烘箱用途

  二合一真空腔体带来更低的成本、更高的效率和更可靠的工艺。的温控、工艺时间和腔体尺寸控制系统让您用更少的化学品，实现对沉积过程环境的掌控。

   智能型HMDS真空系统可快速、均匀、经济高效地用六甲基二硅烷 (HMDS) 对晶圆表面进行底漆处理，从而改善光刻胶的附着力。

有效的光刻胶处理是后续所有工艺步骤的基础，只有被处理的表面才能准确复制，避免蚀刻不足或边缘粗糙。JS-HMDS系列真空系统可脱水晶圆，使HMDS 层附着力更强，即使暴露于大气湿气数周也能保持稳定。

智能型HMDS真空系统 HMDS预处理系统特点

通过使用六甲基二硅氮烷（HMDS）对晶圆表面进行快速、均匀、且成本效益高的硅烷化处理，有效增强了与光刻胶的粘合性。

真空镀膜技术能脱水晶圆，确保了更强的粘接强度。

即便长时间暴露于潮湿的空气中，HMDS层也能维持其稳定性。

我们的控制系统支持用户根据需要选择温度、处理时长及腔室尺寸。

此外，我们的技术还能降低化学物品的使用量和成本，实现经济效益。

通过工艺处理，达到图像反转效果，解决了图像反转光刻胶的复杂性。

HMDS真空系统 HMDS预处理系统 图像反转烘箱参数

设备型号：JS-HMDS90AI                       

工作室尺寸（mm）： 450×450×450，650*650*650,可自定
材质：外箱采用优质冷轧板喷塑或不锈钢，内箱采用316L级不锈钢
温度范围：RT+10-200℃ 
温度分辨率：0.1℃
温度波动度：≤±0.5
真空度：1torr
洁净度：设备采用无尘材料，适用100级光刻间净化环境
控制仪表：人机界面
搁板层数：2层
HMDS控制:可控制HMDS药夜添加量
真空泵：旋片式油泵或干泵
保护装置:HMDS药液泄漏报警装置，HMDS自动添加，超温保护，漏电保护，过热保护