产品中心您的位置:网站首页 > 产品中心 > HMDS烘箱 > HMDS预处理系统 > JS-HMDS90HMDS真空系统 HMDS预处理系统 图像反转烘箱
HMDS真空系统 HMDS预处理系统 图像反转烘箱

HMDS真空系统 HMDS预处理系统 图像反转烘箱

简要描述:

HMDS真空系统 HMDS预处理系统 图像反转烘箱可快速、均匀、经济高效地用六甲基二硅烷 (HMDS) 对晶圆表面进行底漆处理,从而改善光刻胶的附着力。

HMDS真空系统 HMDS预处理系统 图像反转烘箱用途

  二合一真空腔体带来更低的成本、更高的效率和更可靠的工艺。先进的温控、工艺时间和腔体尺寸控制系统让您用更少的化学品,实现对沉积过程环境的掌控。

   智能型HMDS真空系统可快速、均匀、经济高效地用六甲基二硅烷 (HMDS) 对晶圆表面进行底漆处理,从而改善光刻胶的附着力。

有效的光刻胶处理是后续所有工艺步骤的基础,只有被处理的表面才能准确复制,避免蚀刻不足或边缘粗糙。JS-HMDS系列真空系统可脱水晶圆,使HMDS 层附着力更强,即使暴露于大气湿气数周也能保持稳定。

智能型HMDS真空系统 HMDS预处理系统特点

通过使用六甲基二硅氮烷(HMDS)对晶圆表面进行快速、均匀、且成本效益高的硅烷化处理,有效增强了与光刻胶的粘合性。

真空镀膜技术能脱水晶圆,确保了更强的粘接强度。

即便长时间暴露于潮湿的空气中,HMDS层也能维持其稳定性。

我们的先进控制系统支持用户根据需要选择温度、处理时长及腔室尺寸。

此外,我们的技术还能降低化学物品的使用量和成本,实现经济效益。

通过工艺处理,达到图像反转效果,解决了图像反转光刻胶的复杂性。

HMDS真空系统 HMDS预处理系统 图像反转烘箱参数

设备型号:JS-HMDS90AI                       

工作室尺寸(mm): 450×450×450,650*650*650,可自定
材质:外箱采用优质冷轧板喷塑或不锈钢,内箱采用316L医用级不锈钢
温度范围:RT+10-200℃ 
温度分辨率:0.1℃
温度波动度:≤±0.5
真空度:1torr
洁净度:设备采用无尘材料,适用100级光刻间净化环境
控制仪表:人机界面
搁板层数:2层
HMDS控制:可控制HMDS药夜添加量
真空泵:旋片式油泵或干泵
保护装置:HMDS药液泄漏报警装置,HMDS自动添加,超温保护,漏电保护,过热保护


上一篇 : JS-MOL00HMDS烘箱 图像反转系统 HMDS涂胶机    下一篇 :  没有了
COPYRIGHT @ 2016 网站地图    沪ICP备16022591号-1   

上海隽思实验仪器有限公司主要经营优质的HMDS真空系统 HMDS预处理系统 图像反转烘箱等,欢迎来电咨询HMDS真空系统 HMDS预处理系统 图像反转烘箱详细资料等信息
地址:上海奉贤柘林工业区3213号