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NH3氨气烘箱 氨气真空系统 氨气图形反转炉

NH3氨气烘箱 氨气真空系统 氨气图形反转炉

简要描述:

NH3氨气烘箱 氨气真空系统 氨气图形反转炉通过其化学性质,在光刻胶中发挥着调整极性、优化图形转移效果的重要作用,是微细制造领域的关键材料之一。

NH3氨气烘箱 氨气真空系统 氨气图形反转炉用途:

   在光刻胶的处理过程中,调整其极性对于实现精确的图形转移至关重要。氨气作为一种有效的极性调节剂,在光刻胶中发挥着关键作用。使得光刻胶在半导体、光学器件及生物芯片等制造领域能够更精准地适应图形转移的需求,提升产品的制造质量和精度。氨气通过其化学性质,在光刻胶中发挥着调整极性、优化图形转移效果的重要作用,是微细制造领域的关键材料之一。

   氨气真空烘烤系统广泛应用于新材料(如超材料、表面工程)、前沿物理研究(如超导、量子)、仿生(功能性表面)、光子(微纳光学、光波导、光子晶体)、生物(DNA测试、纳流控)、微电子等研究领域,以及3D结构光器件、光子芯片、高功率芯片等加工领域。

NH3氨气烘箱 氨气真空系统 氨气图形反转炉技术性能:

容量:2-12寸晶圆或方片兼容,可定制

温度范围: RT-200℃

真空度: ≤100pa

控制仪表: 人机界面+PLC

气路控制: 多气路控制

真空泵: 高品质涡旋无油泵

保护装置: NH3监测保护,超温保护,漏电保护等

NH3氨气烘箱 氨气图形反转炉特点:

具有重复性好

更加稳定

环保,对人体无害的显著优点

也可用于其它硅烷沉积工艺的处理


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