抗粘剂蒸镀机，抗粘层镀膜机在基片与弹性支撑层之间还形成有抗黏层，抗黏层一般由全氟辛基三氯硅烷或全氟癸基三氯硅烷形成。

HMDS涂布机，HMDS涂胶烤箱用于光刻工艺中基板疏水化处理， HMDS 涂布的原理，较常用的黏附剂是六甲基二硅胺烷（HMDS）。在提升光刻胶的黏附性工艺中，实际上六甲基二硅烷并不是作为粘结剂所产生作用的，而是HMDS 改变了 SiO2 的界面结构，从而使晶圆的性质由亲水性表面转变为疏水性表面。

HMDS镀膜机设备。整个系统采用优质医用级316L不锈钢材料制作，无发尘材料，适用百级光刻间净化环境。

HMDS涂胶系统，HMDS涂胶烤箱通过对烘箱预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数的控制可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。适用于硅片、液晶面板、显示器、砷化镓、陶瓷、不锈钢、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料预处理及相关行业。

脱模剂蒸镀机，脱 模剂镀膜烤箱应用于半导体，光电、电子行业硅片、砂纸或石英硬模板等材料。

气相成底膜烤箱，HMDS蒸气淀积系统用于除去硅片表面的污染物（颗粒、有机物、工艺残余、可动离子），除去水蒸气，使基底表面由亲水性变为憎水性，增强表面的黏附性（HMDS-六甲基二硅胺烷）。

可程式HMDS蒸镀设备，HMDS真空镀膜机通过对烘箱预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数的控制可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性.