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碳化硅HMDS烘箱,SiC衬底HMDS烤箱 工业烘箱
碳化硅HMDS烘箱,SiC衬底HMDS烤箱 工业烘箱

碳化硅HMDS烘箱,SiC衬底HMDS烤箱将HMDS气相沉积至半导体制造中氮化镓(GaN)和、碳化硅(SiC)、硅片、砷化镓等材料表面后,经系统加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用

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HMDS烘箱真空泵,IDP10无油泵
HMDS烘箱真空泵,IDP10无油泵

HMDS烘箱真空泵,IDP10无油泵泵具有密封设计,电机和轴承与真空环路全隔离,延长了轴承的使用寿命,并提供洁净、无油的真空条件。IDP 泵采用单面涡旋设计,可通过简单的工具在 15 分钟内完成维护操作。可选的集成式隔离阀防止意外污染,并且不会额外增加泵的高度。

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OAP烘箱,OAP处理烘箱 工业烘箱
OAP烘箱,OAP处理烘箱 工业烘箱

OAP烘箱,OAP处理烘箱处理主要是为了改善亲水性表面,变为疏水性,从而达到增加光刻胶粘附性的作用。

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六甲基二硅氮烷(HMDS)表面处理设备 工业烘箱
六甲基二硅氮烷(HMDS)表面处理设备 工业烘箱

六甲基二硅氮烷(HMDS)表面处理设备的作用是匀胶前衬底“增附”处理。在光刻中,通常会用到一些例如蓝宝石、氮化镓、砷化镓甚至是贵金属薄膜等衬底,这类衬底与光刻胶的粘附性往往不怎么理想,这会导致后续的光刻显影环节出现“裂纹”甚至是漂胶等问题。因此必须通过工艺手段改善,这个步骤我们叫做增附处理或者叫做助黏。

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HMDS 烘箱 工业烘箱
HMDS 烘箱 工业烘箱

HMDS 烘箱是将HMDS蒸汽通过干燥的真空腔内加热到(120-150°C),在衬底表面上HMDS作为单层膜进行化学结合。

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HMDS烤箱,HMDS真空烘箱
HMDS烤箱,HMDS真空烘箱

HMDS烤箱,HMDS真空烘箱将HMDS气相沉积至半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料表面后,经系统加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。

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HMDS预处理系统(JS-HMDS90 )-真空烘箱
HMDS预处理系统(JS-HMDS90 )-真空烘箱

HMDS预处理系统(JS-HMDS90 )是将“去水烘烤“和HMDS处理放在同一道工艺,同一个容器中进行,晶片在箱内先经过100℃-200℃的去水烘烤,再进行HMDS处理,不需要从箱内传出,而接触到空气,晶片吸收水分子的机会大大降低,所以有更好的处理效果。

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