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无尘烘箱,晶圆无尘烤箱

无尘烘箱,晶圆无尘烤箱

简要描述:

无尘烘箱,晶圆无尘烤箱用于半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃等材料涂胶前的预处理烘烤、涂胶后坚膜烘烤和显影后的高温烘烤;也适用于电子液晶显示、LCD、CMOS、IS、医药、实验室等生产及科研部门;

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无尘烘箱,晶圆无尘烤箱用途:

   无尘烘箱,晶圆无尘烤箱用于半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃等材料涂胶前的预处理烘烤、涂胶后坚膜烘烤和显影后的高温烘烤;也适用于电子液晶显示、LCD、CMOS、IS、医药、实验室等生产及科研部门;也可用于非挥发性及非易燃易爆物品的干燥、热处理、老化等其他高温试验。

技术参数:

  无尘等级:Class 100、10;     

 温度范围:RT+10~300℃;
 温度均匀度:±2℃;    

 温度波动度:±0.5℃(空载)        
 温控精度:±0.1℃;        

 工作室尺寸:W1600×D1600×H1000(mm)  (可定做)   
 电源:380v , 50Hz,16KW    

 网板:2块(高度可调节)

特点:
1.在普通环境下使用,能够确保烘箱内部等级达到Class 100;
2.全周氩焊,耐高温硅胶破紧,SUS304#不锈钢电热生产器,防机台本身所产生微尘;
3.采平面水平由后向前送风热风循环系统,风源由循环马达运转带动风轮经电热器,将热风由风道送至烤箱内部,且将使用后空气吸入风道成为风源再度循环加热,省电节能温度均匀性好,过滤效率99.99%,Class 100;
4.强制送风循环方式。双风道循环结构,温度场分布均匀,智能P.I.D温控系统,优良的温度控制精度。

 

智能型HMDS烘箱,全自动HMDS预处理系统

智能型HMDS烘箱,全自动HMDS预处理系统的重要性:
  光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。  在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。

智能型HMDS烘箱,全自动HMDS预处理系统主要技术性能:

电源电压:AC 220V±10%/50Hz±2%

输入功率:2500W

控温范围:RT+10℃-250℃

温度分辨率:0.1℃

温度波动度:±0.5℃

达到真空度:133Pa(1torr)

工作室尺寸(mm):450*450*450、350*350*350(可自定义)

智能型HMDS烘箱,全自动HMDS预处理系统的优越性:

预处理性能更好,更加均匀;效率高,一次可以处理多达4盒的晶片;更加节省药液;低液报警、防药液泄漏等具有很强的安全保护功能;,有可自动吸取添加HMDS功能,智能型的程式设定,一键完成作业。

上海隽思仪 器制造热风循环烘箱,洁净烘箱,无尘烘箱,厌氧烘箱,高温无尘固化烤箱,PI胶固化烤箱,BCB胶固化烤箱,无尘无氧烤箱,HMDS烘箱、HMDS预处理烘箱,真空涂胶烤箱,百级烘箱等设备。

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