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抗粘剂涂胶机,抗粘 剂真空预处理系统

抗粘剂涂胶机,抗粘 剂真空预处理系统

简要描述:

抗粘剂涂胶机,抗粘 剂真空预处理系统用于半导体,光电、电子行业硅片或石英硬模板等材料,如制备各种微纳电子器件、光学器件、光电器件、存储器、微流体通道、生物芯片等微纳结构制备方面的应用。

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抗粘剂涂胶机,抗粘 剂真空预处理系统重要性

  在纳米压印工艺中为防止在退模过程中模板与压印胶相互粘连破坏结构,我们需要给模板制备抗粘层,制备抗粘层的方法以及模板的结构也会影响到终的抗粘效果。当模板结构在100nm以下时,在液相中制备的抗粘层就不能完全起到抗粘的作用。这是因为在模板的角落中会滞留一部分空气而导致抗粘材料无法到达这些位置然而,若采用气相的方法则不存在这样的问题。

抗粘剂涂胶机,抗粘 剂真空预处理系统参数

工作室尺寸 350×350×350,450*450*450(mm),可定制

材质 外箱优质SUS#304不锈钢,内腔采用316L医用不锈钢

温度范围  可调节

温度分辨率 0.1℃

温度波动度 ≤±0.5

洁净度 设备采用无尘材料,适用100光刻间净化环境

电源及总功率 AC 220V±10% / 50HZ     总功率约3.5KW  

控制仪表 人机界面+PLC

搁板层数 1-4层

抗粘剂添加量可调

真空泵 无油泵

抗粘剂涂胶机,抗粘剂真空预处理使用条件

环境温、湿度5℃~+35℃,相对湿度:≤85%;

周围无强烈震动;  

周围无高浓度粉尘及腐蚀性物质;

周围无强烈电磁场影响;

设备应放在坚固平稳的平面上,并使其保持水平状态;

不小于0.3MPa高纯氮气;

安装设备使用空开电源 ;

有机尾气排放管道。

 


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