不锈钢无尘烤箱，双层无尘烘箱应用于目前关键的半导体电子行业（如硅片干燥，坚膜烘烤，装片机后道烘烤，塑封后烘烤，治具烘烤等），另外，双层无尘烘箱还在LED制造行业中用于烘烤玻璃基板、无机材料行业中用于材料高精度工序。

无氧烘箱，无氧化烘箱在半导体集成电路制造过程中，晶圆表面预处理、涂胶、曝光前后的烘焙即曝光后烘烤（Post Exposure Bake，PEB）、对准、显影、显影后烘焙等因素都会对光刻工艺效果带来显著影响

百级无尘烘箱，不锈钢无尘烤箱用于IC生产中前烘、后烘烤、坚膜、装片机后端烘烤、塑封封装烘烤、光刻胶固化、治具干燥、薄膜烘烤、硅片干燥等工艺。

有降温功能真空烘箱，300度可降温真空烤箱用于键合预处理，晶圆，芯片，电容，电池，封装，光刻胶固化，PI固化等

充氮真空烘箱，快速降温真空烤箱用于键合材料的真空预处理 、BCB固化、ITO膜退火，PI胶固化等工艺。广泛应用于半导体、电子产品、医疗卫生等行业。

PI固化厌氧烘箱，聚酰亚胺固化炉多次实验后采用阶梯升温过程,亚胺化效果*。采用程控烘箱进行亚胺化,烘箱内为纯N2氛围.

充氮厌氧烘箱，450度厌氧固化炉应用于精密电子元件、聚酰亚胺层（PI）固化烘烤、光刻胶固化、电子陶瓷材料烘干的特殊工艺要求，模拟线性升降温环境，特别适合半导体制造、MEMS制作、工艺COB封装、医疗卫生、柔性线路板印刷、精密模具煺火等行业的无氧化干燥烘烤工艺要求。