RTP快速退火炉，快速热处理设备（RTP）简介 快速热处理设备（RTP）可用于砷化镓、硅以及其他半导体材料，离子注入后的退火、硅化物的形成、欧姆接触制备以及快速氧化、快速氮化等方面。RTP快速退火炉，快速热处理设备（RTP）具有快速升降温、慢速升降温、和长工作时间稳定等特点。也可用于各种半导体材料的CVD工艺的热处理。

等离子去胶机，等离子表面处理机采用国内*射频源，其电磁兼容性能优良、高频辐射小，符合国家环保规定。本机外形美观大方，操作简便。等离子去胶机，半导体工艺表面处理机适于对基片进行去胶、清洗等工艺。该设备具有去胶工艺简单、可靠、*、速率快、成品率高、处 理后无酸气废水等残留等特点。

等离子清洗机,等离子表面处理仪是一种表面处理设备， 用气体作为处理介质，它是利用能量转换技术以电能将气体转换为化学反应性和活性很高的气体等离子体，等离子体对固体样品表面进行相互作用，引起分子结构改变，从而对样品表面的有机污染物进行超清洗和使样品表面改性，以获得希望的表面特性。