洁净烘箱，百级洁净烤箱用于半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃等材料涂胶前的预处理烘烤、涂胶后坚膜烘烤和显影后的高温烘烤。

前烘洁净烘箱，半导体工艺烤箱，用于半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃等材料涂胶前的预处理烘烤、涂胶后坚膜烘烤和显影后的高温烘烤，强制送风循环方式。

半导体光刻烤箱晶圆涂胶烤箱、光刻涂胶用烘箱是一种提供高温净化环境的特殊洁净烘干设备。箱内空气封闭自循环。经耐高温高效空气过滤器过滤，使烘箱工作室内处于无尘状态。

半导体工艺洁净烘箱，百级无尘烘箱具有*设计的强鼓风循环系统确保了温度的稳定性，高效循环过滤系统确保箱内的洁净度,控温装置采用 PID 数显控温（可选触摸屏等），直观醒目，设有可靠性保护装置。

HMDS烘箱，半导体工艺HMDS设备有可自动吸取添加HMDS功能，智能型的程式设定，一键完成作业。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。

RTP快速退火炉，快速热处理设备（RTP）简介 快速热处理设备（RTP）可用于砷化镓、硅以及其他半导体材料，离子注入后的退火、硅化物的形成、欧姆接触制备以及快速氧化、快速氮化等方面。RTP快速退火炉，快速热处理设备（RTP）具有快速升降温、慢速升降温、和长工作时间稳定等特点。也可用于各种半导体材料的CVD工艺的热处理。

等离子去胶机，等离子表面处理机采用国内*射频源，其电磁兼容性能优良、高频辐射小，符合国家环保规定。本机外形美观大方，操作简便。等离子去胶机，半导体工艺表面处理机适于对基片进行去胶、清洗等工艺。该设备具有去胶工艺简单、可靠、*、速率快、成品率高、处 理后无酸气废水等残留等特点。