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硅片无氧烘箱,半导体厌氧烤箱

硅片无氧烘箱,半导体厌氧烤箱

简要描述:

硅片无氧烘箱,半导体厌氧烤箱,在工作时,工作室内充满了惰性气体CO2,N2,防止材料在烘烤时被氧化。无氧化烘箱在工业中的用途:IC包装,LCD,晶体管,传感器,二极管,石英晶体振荡器,混合集成电路板……

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硅片无氧烘箱,半导体厌氧烤箱 概述

硅片无氧烘箱,半导体厌氧烤箱,在工作时,工作室内充满了惰性气体CO2,N2,防止材料在烘烤时被氧化。无氧化烘箱在工业中的用途:IC包装,LCD,晶体管,传感器,二极管,石英晶体振荡器,混合集成电路板……

 

技术参数

主要技术指标

Ø  含氧量:< 100ppm;

Ø  温度范围: RT(室温)+10~ +200℃;

Ø  温度均匀度:±1℃;

Ø  温度波动度:±0.5℃(空载)

Ø  温控精度:0.1℃

箱体结构

烘箱搁板为活动形式。

Ø  温控装置:智能LED双数显高精度温度控制系统,控温精度±1℃,温度为室温至300℃任意调节,并具有PID自整定,自动恒温等功能

Ø  超温保护:独立配置超温保护仪,超过温度上限,自动报警并主动切断加热

Ø  固态输出:SSR无触点继电器模块,灵敏度高,寿命长

Ø  测温装置:不锈钢铠甲PT100传感器、K分度热电偶传感器,精确测温,放心使用

Ø  定时装置:高精度数显自动定时器,0-99.99小时恒温时间设定,可预设烘烤时间

Ø  报警系统:APT/AD16型声光报警系统,时间到声光报警并自动切断加热

Ø  电器元件:采用著名品牌电器

Ø  安全装置:漏电,短路,过载保护;鼓风电机过载缺相保护

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