硅片充氮烘箱,半导体充氮烤箱是一种提供高温净化环境的特殊洁净烘干设备。烘箱整机为不锈钢结构,全部采用无尘材料,箱内持续充氮,使烘箱工作室内处于洁净状态。工作室内温度由温控仪自动控制,并有自动恒温及时间控制装置,并附设有超温自动停电及报警电路,控制可靠,使用安全。适用于电子液晶显示、LCD、CMOS、IC、医药、实验室等生产及科研部门。
硅片充氮烘箱,半导体充氮烤箱概述
硅片充氮烘箱,半导体充氮烤箱是一种提供高温净化环境的特殊洁净烘干设备。烘箱整机为不锈钢结构,全部采用无尘材料,箱内持续充氮,使烘箱工作室内处于洁净状态。工作室内温度由温控仪自动控制,并有自动恒温及时间控制装置,并附设有超温自动停电及报警电路,控制可靠,使用安全。适用于电子液晶显示、LCD、CMOS、IC、医药、实验室等生产及科研部门。
特点
1、全周氩焊,耐高温硅胶迫紧,SUS304#不锈钢电热产生器,防机台本身产生微尘;
2、耐高温,可以达到和工作场所同样的洁净等级;
技术参数
1、主要技术指标
Ø 温度范围: RT(室温)+10~200℃;
Ø 温度偏差:≤±2.0℃;
Ø 升温速度:≥2℃/min;
Ø 洁净等级:千级以上
Ø 计时功能:具有独立的计时器,计时开关,计时报警器
2、箱体结构
Ø 箱体材料:外箱采用优质冷轧板烤漆;
Ø 内室材料:采用SUS304#无磁性镜面不锈钢;
Ø 保温材料:超细玻璃棉;
Ø 排 气 口:ф50;
Ø 隔 板:2层,不锈钢方通,承重约30KG;
Ø 空气循环装置:大容量轴流电机;
Ø 加热方式:不锈钢电加热器;
3、温控系统
Ø 温度测量传感器:Pt100 铂电阻;
Ø 控制仪表:日本富士温度控制器,PID调节,控制精度0.1℃;
Ø 超温保护仪表:独立于工作室主控制的超温保护系统,保证试验品的安全;
Ø 控制系统:主要电器件均采用施耐德、欧姆龙等进口元气件