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  • 抗粘 剂气相涂布烘箱,抗粘剂 气相沉积系统
    抗粘 剂气相涂布烘箱,抗粘剂 气相沉积系统主要用于纳米压印光刻(NIL)应用,防粘涂层的制备,可用于光刻工艺中硅烷涂胶;以及功率半导体,LED,MEMS,半导体分立器件等硅烷沉积涂胶工艺。
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    2025-09-17
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  • 程控式氮气洁净烤箱,四箱充氮烘箱
    程控式氮气洁净烤箱,四箱充氮烘箱工作室内温度由温控仪自动控制,可设定定值运行、程序(曲线)运行自由切换,并有自动恒温及时间控制,并附设有超温自动停止加热及报警电路,控制可靠,使用安全。
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  • 掩膜版烘烤机,光罩版恒温热板
    掩膜版烘烤机,光罩版恒温热板适用于半导体光刻工艺的前烘和坚膜、电路模块的涂敷烧结和考核等工艺。
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  • 均匀性0.5度的恒温加热台,可编程恒温热板-烘箱设备
    均匀性0.5度的恒温加热台,可编程恒温热板用于固化光刻胶,固化环氧塑脂,可用于显微镜下使用以及其它需要高精度控温的场合等。适用于半导体光刻工艺的前烘和坚膜、电路模块的涂敷烧结和考核等工艺。
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  • 高温百级无氧烘箱,500度厌氧洁净烤箱
    高温百级无氧烘箱,500度厌氧洁净烤箱用于PI、BCB 胶高温固化烘烤、银胶固化、光刻胶固化、电子陶瓷材料、硅片退火、玻璃退火、无尘烘干的特殊工艺要求。
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