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HMDS(六甲基二硅氮烷)表面处理

发布时间:2022-11-03   点击次数:113次

HMDS(六甲基二硅氮烷)表面处理的应用

六甲基二硅氮烷(HMDS)表面处理的工艺是匀胶前衬底“增附"处理。在光刻中,通常会用到一些例如蓝宝石、氮化镓、砷化镓甚至是贵金属薄膜等衬底,这类衬底与光刻胶的粘附性往往不怎么理想,这会导致后续的光刻显影环节出现“裂纹"甚至是漂胶等问题。因此必须通过工艺手段改善,这个步骤我们叫做增附处理或者叫做助黏,也称为HMDS预处理。

HMDS(六甲基二硅氮烷)表面处理设备

  JS-HMDS90 是将“去水烘烤“和HMDS处理放在同一道工艺,同一个容器中进行,晶片在箱内先经过100℃-200℃的去水烘烤,再进行HMDS处理,不需要从箱内传出,而接触到空气,晶片吸收水分子的机会大大降低,所以有更好的处理效果。

  HMDS(六甲基二硅氮烷)表面处理设备将HMDS气相沉积至半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料表面后,经系统加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。


HMDS药液低液位报警:

自动吸取HMDS:

可自动添加HMDS:

HMDS药液泄漏报警:

HMDS气体管路加热系统:

参数记录功能:

温度与程序互锁功能:

容积大小:350*350*350/450*450*450(mm)可定制

温度范围:RT+10-250℃

真空度:≤133pa(1torr)       

控制系统;人机界面+PLC

搁板层数:2层


   无氧烘箱,真空无氧烘箱,无尘烘箱,HMDS烘箱,硅烷蒸镀机,无尘无氧烘箱,氮气烘箱,鼓风真空烘箱,超低温试验箱,快温变试验箱,恒温恒湿试验箱,高低温冲击试验箱等设备,以及非标定制。---上海隽思仪器专业生产/服务! 



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