HMDS预处理系统有哪些优点你清楚吗？

　　HMDS预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是至关重要的一个工艺环节，而涂胶工艺的好坏，直接影响到光刻的质量。涂胶工艺中的一种叫Hexamethyldisilazane(HMDS)化学制剂，化学名称叫六甲基二硅氮 甲烷，即HMDS。把它涂到硅片表面后，通过加温可反应生成以硅氧烷为主题的起表面活性剂作用的化合物，它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起到耦合的作用。在显影的过程中，增强了光刻胶与基底的粘附力，从而有效地抑制刻蚀液进入掩模与基底的侧向刻蚀。但随着光刻线条的越来越细，胶的越来越薄，对粘附力提出了更高的要求，于是我们研制出了现在的HMDS烘箱。
 

　　HMDS预处理系统的优点：
 

　　1、预处理性能更 好，由于是在经过数次的氮气置换再进行的HMDS处理，所以不会有尘埃的干扰，再者，由于该系统是将"去水烘烤"和HMDS处理放在同一道工艺，同一个容器中进行，晶片在容器里先经过100℃-200℃的去水烘烤，再接着进行HMDS处理，不需要从容器里传出，而接触到大气，晶片吸收水分子的机会大大降低，所以有着更 好的处理效果等。
 

　　2、处理更加均匀。由于它是以蒸汽的形式涂布到晶片表面上，所以有液态涂布不可比拟更 好的均匀性。
 

　　3、效率高。液态涂布是单片操作，而本系统一次可以处理多达4盒的晶片。
 

　　4、更加节省药液。实践证明，用液态HMDS涂布单片所用的药液比用本系统处理4盒晶片所用药液还多;
 

　　5、更加环保和安全，HMDS是有毒化学药品，人吸入后会出现反胃、呕吐、腹痛、刺激胸部、呼吸道等，由于整个过程是在密闭的环境下完成的，所以不会有人接触到药液及其蒸汽，也就更加安全，它的尾气是直接由机械泵抽到尾气处理机，所以也不会对环境造成污染。