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HMDS烤箱的主要功能及特点

发布时间:2022-12-26   点击次数:57次
   HMDS烤箱通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS,降低了HMDS处理后的硅片接触角,降低了光刻胶的用量,提高光刻胶与硅片的黏附性。
  
  在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。
  
  HMDS烤箱主要功能:
  将HMDS涂到样品表面后,经烘箱加温可生成硅氧烷为主的化合物,将样品表面由亲水性变为疏水性,此疏水性能够很好的与光刻胶结合,增加了样品表面与光刻胶的粘附作用。
  
  性能特点:
  1、机外壳采用不锈钢SUS304材质制造,内胆为不锈钢316L材料制成;加热器均匀分布在内胆外壁四周,内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防dan双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。
  2、箱门闭合松紧能调节,整体成型的硅橡胶门封圈,确保箱内高真空度。
  3、微电脑智能控温仪,具有设定,测定温度双数字显示和PID自整定功能,控温精确,可靠。
  4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序,温度,真空度及每一程序时间。
  5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计,真空箱密封性能佳,确保HMDS气体无外漏顾虑。
  6、整个系统采用优质材料制造,无发尘材料,适用100级光刻间净化环境。

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