HMDS烘箱结构,HMDS涂布机原理
HMDS,即六甲基二硅胺,是半导体光刻工艺中一种常见的耗材。HMDS是一种易挥发的化学品,传送到工艺腔的HMDS是以气态形式存在的,其均匀附着在晶圆表面,形成HMDS膜层。
HMDS烘箱结构,HMDS涂布机原理
现有技术中,涂布过程一般先在氮气的保护下对晶圆进行加热,同时通入HMDS进行涂布,但由于前期氮气的通入,为了保证HMDS的浓度及扩散效果,必须增加HMDS的通入量,才能使其浓度达到一定范围,这样势必造成HMDS的浪费,且HMDS为有害气体,过高浓度的排放会对环境造成严重破坏。
HMDS烘箱,HMDS涂布机技术参数
工作室尺寸 | 350×350×350、450×450×450、850×850×850(mm)可自定义 |
材质 | 外箱采用冷轧板喷塑或304不锈钢,内箱采用316L医用级不锈钢 |
温度范围 | RT+10-250℃ |
真空度 | ≤133pa(1torr) |
洁净度 | class 100,设备采用无尘材料,适用100级光刻间净化环境 |
控制仪表 | 人机界面 |
搁板层数 | 2层 |
HMDS控制 | 可控制HMDS药夜添加量 |
真空泵 | 旋片式油泵(可选配进口无油泵) |
保护装置 | HMDS低液位报警,HMDS自动添加,超温保护,漏电保护,过热保护等 |