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精密热风循环烘箱的规范使用方法分享
20261-23
精密热风循环烘箱的规范使用方法分享

精密热风循环烘箱广泛应用于实验室、制药、电子、材料及食品等行业，用于干燥、固化、老化或灭菌等关键工艺。其依赖强制热风循环与高精度温控实现±0.5℃以内的温度均匀性，若操作不当，不仅影响实验结果，还可能引发样品碳化、设备过热甚至火灾风险。掌握精密热风循环烘箱规范使用方法，是保障温准、风匀、样安、机稳的核心前提。一、使用前准备放置环境：置于水平、通风、远离易燃物的区域，背部预留≥30cm...

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  • 配有HMDS气体检测的HMDS烘箱有吗
    配有HMDS气体检测的HMDS烘箱HMDS烘箱用于光刻前基板的疏水性处理工艺。它是将HMDS（六甲基二硅胺烷）通过气相沉积的方法均匀的涂布在基底表面，使基底表面接触角增大，基底表面由亲水性变为疏水性，就会增强光刻胶的粘附性。避免了显影后光刻...

    2023-10-26

  • 高低温冲击试验箱两箱和三箱该怎么选？
    三厢式高低温冲击试验箱的设计是将低温区、高温区和试验区三个部分集成在一起。这三个区域是独立的，它们之间通过风门进行切换，不需要移动试验产品。两厢式高低温冲击试验箱的工作原理是通过控制制冷系统和加热系统实现箱内温度的快速升降。通过加热系统和制...

    2023-10-26

  • 双腔式PI固化炉的优点
    双腔式PI固化炉操作步骤双腔式PI固化炉即具有两个工作室的PI固化炉，可同时运行也可独立操作。不仅具有单腔固化炉的所有功能，而且还能够使用不同的生产工艺。排气等管道合二为一，节约能源，更加环保；双腔式占地面积更小，节约空间；还可批量生产，提...

    2023-10-26

  • 氮气烘箱在半导体制程如何选择？
    每个半导体产品的制造都需要数百个工艺,整个制造过程分为八个步骤:晶圆加工-氧化-光刻-刻蚀-薄膜沉积-互连-测试-封装。然而在这数百个工艺中有数道需要烘烤工艺，而且每个烘烤工艺不是相同，所以需要的烘烤设备也有差异。精密氮气烘箱可用于一以下工...

    2023-10-26

  • 无需液氮的-150度的超低温试验箱你知道吗？
    -150度的超低温试验箱采用先进的复叠制冷技术，以多元混合工质作为制冷剂。极大地简化了制冷系统的结构，降低了初投资成本，减小系统运行能耗，提高系统可靠性。制冷系统采用精馏的方法巧妙的完成了润滑油与混合工质的高效分离，保证系统在低温段不出现油...

    2023-10-26

  • 晶元烘箱的应用领域与优势分析
    晶元烘箱是一种高精度的烘烤设备，广泛应用于电子、半导体、光学、新能源等领域。随着科技的不断发展，相信它在未来还将发挥更加重要的作用。本文将重点分析晶元烘箱的应用领域以及其优势。一、应用领域在电子行业中，晶元烘箱被广泛用于烘烤芯片、电子元件等...

    2023-10-20

  • 氮气烘箱，百级洁净烘箱在光刻软烘烤工艺注意事项有哪些？
    光刻加工中涂布后，所得的抗蚀剂膜将包含20-40%重量的溶剂。后涂覆烘烤工艺，也称为软烘烤或预烘烤，涉及在旋涂之后通过除去该过量溶剂来干燥光致抗蚀剂。减少溶剂含量的主要原因是使抗蚀剂膜稳定。在室温下，光刻加工未烘烤的光致抗蚀剂膜将通过蒸发而...

    2023-10-07

  • HMDS烘箱在第三代半导体材料中的工艺
    HMDS烘箱在第三代半导体材料中的工艺第三代半导体是以碳化硅（SiC）、氮化镓（GaN）、氧化锌（ZnO）、金刚石、氮化铝（AlN）为代表的宽禁带（禁带宽度Eg2.3eV）的半导体材料。其中又以SiC和GaN为最核心的材料。然而这些新材料衬...

    2023-10-07

  • 介绍高温无氧化烤箱的原理及特点
    高温无氧化烤箱又称为无氧化烘烤箱或高温烘箱，是一种在烘焙过程中有效减少甚至消除氧化的关键设备。具有节能、精确的温度控制、有效的抗氧化保护和多功能性等特点。厌氧烤箱是用来在半导体芯片制造前段制程中旋涂工艺(即涂布工艺)时，进行无氧烘箱、洁净无...

    2023-09-21

  • 固化烤箱是提高产品质量的关键工艺设备
    固化烤箱是一种关键的工艺设备，广泛应用于各行各业，特别是在涂装、胶粘剂固化和塑料制品加工等领域。它通过控制温度和时间来完成材料的固化过程，从而提高产品的质量和性能。1、在涂装行业起着至关重要的作用。在涂装过程中，涂料需要通过固化来形成坚固的...

    2023-08-22

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