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掌握无尘烘箱规范使用方法是保障工艺纯净与运行可靠的核心
20262-26

无尘烘箱作为半导体、生物制药、精密电子等高洁净领域的设备,不仅需提供稳定温控,更须在高温下维持内部空气洁净度(通常达ISOClass5/百级)。其操作远非普通烘箱可比,稍有疏忽便可能导致样品污染、设备损坏甚至安全事故。掌握无尘烘箱科学、规范的使用方法,是保障工艺纯净与运行可靠的核心。一、使用前准备环境确认:安置于洁净室或专用洁净工作区内,避免在多尘、高湿或强振动环境中使用;确保供电电压稳定,接地良...

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  • 随着集成电路封装对可靠性要求越来越高,装片后烘烤对于产品可靠性的影响日益凸显。烘烤过程中由于装片胶烘烤产生的可挥发物污染及框架、芯片表面铝层氧化异常,往往会带来后续封装过程中的朔封体分层、焊接可靠性不良等可靠性异常,是封装过程中对封装可靠性...

    2022-04-28

  • 数显恒温加热台在光刻工艺的烘烤目的光刻光刻工艺中需要烘烤的步骤有:预烘培和底漆涂敷、软烘烤、曝光后烘烤、硬烘烤。软烘烤将光刻胶从液态转变为固态,增强光刻胶在晶体表面的附着力;PEB(曝光后烘烤)的目的是降低驻波效应;硬烘烤的目的是除去光刻胶...

    2022-04-27

  • 高温无氧烘箱在半导体行业中的用途高温无氧烘箱应用于MEMS智能传感器芯片生产、LCD前工段生产、玻璃基板等工艺中的PI(聚酰亚胺)固化,BCB聚合物、PBO高温固化,银胶固化,光刻胶固化,镀金方案中感湿膜烘烤工艺,车载玻璃镀膜后退火,硅片(...

    2022-04-26

  • HMDS烘箱在Micro-LED芯片的应用Micro-LED具有*的性能,应用于微型显示器、可见光通信、光学生物芯片、可穿戴设备和生物传感器等领域。目前,Micro-LED显示的技术挑战是如何获得高分辨率和高像素密度。像素尺寸缩小、芯片的周...

    2022-04-24

  • -150超低温试验箱只用机械制冷,无需使用液氮的方法高低温试验箱常规的温度为-80~150度,然而低于-100度就需要液氮辅助才可以实现;现在无需液氮辅助,只需要机械制冷的方式就可以实现。超低温试验箱主要应用于能源(超导输电、超导储能、超导...

    2022-04-21

  • 高精度烤胶机的基本功能加热面积尺寸:160mm*160mm、220mm*220mm,多尺寸定制控温范围:室温--200/300/400/500/600℃温度分辨率:0.1℃温度波动度:≤±0.5℃温度均匀性:≤±...

    2022-04-20

  • 高温真空无氧烤箱有哪些优点外型尺寸相对较小,节约空间氮气使用量减小,能耗低真空固化效果更佳高温真空无氧烤箱用于键合前键合材料的真空固化、ITO膜退火,BCB/PI胶固化等工艺。广泛应用于半导体、电子产品、医疗卫生等行业,适用于工厂、高等院校...

    2022-04-15

  • 洁净烘箱选型的方法和注意事项洁净烘箱选型的方法工作室尺寸的选择:根据最大产品外形尺寸+最大产量+余量5%选择合适的内部尺寸规格450×450×450mm500×500×500mm500×600×700mm700×800×900mm800×1...

    2022-04-14

  • 选择HMDS烘箱的容积内腔尺寸:450*450*450mm,1-8寸片均适用,4寸晶圆可处理200P/次;HMDS烘箱真空泵的选择根据腔体容积,选配合适型号的真空泵。常用涡旋式真空泵又分为油泵和干泵。◆全无油泵,不会污染真空系统◆采用独立马...

    2022-04-13

  • 无氧烤箱中检测氧浓度的方法在以Y2O3稳定的ZrO2陶瓷(YSZ)中,当两侧附着多孔Pt电极的YSZ固体电介质的两侧存在氧浓度差时,氧离子就从氧浓度大的一侧(P"O2)向浓度小的一侧(P'O2)迁移,其步骤是:在高氧浓侧,一个氧原子得到两个...

    2022-04-12

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