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掌握洁净烤箱科学排障方法是保障生产连续性与产品质量的核心
202511-24
掌握洁净烤箱科学排障方法是保障生产连续性与产品质量的核心

洁净烤箱作为半导体、生物医药及精密制造领域关键的热处理设备，对温度精度、洁净度与运行稳定性要求高。一旦出现升温慢、温度不均、超温报警、颗粒超标或门封漏气等问题，轻则影响工艺一致性，重则导致整批产品报废。掌握洁净烤箱的科学排障方法，是保障生产连续性与产品质量的核心。问题一：升温速度慢或无法达到设定温度原因：加热管老化、循环风机故障、电压不足或腔体密封不良。对策：检查加热管是否发红均匀，若局部不热需更...

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    2022-04-24

  • -150超低温试验箱机械制冷如何实现
    -150超低温试验箱只用机械制冷，无需使用液氮的方法高低温试验箱常规的温度为-80~150度，然而低于-100度就需要液氮辅助才可以实现；现在无需液氮辅助，只需要机械制冷的方式就可以实现。超低温试验箱主要应用于能源（超导输电、超导储能、超导...

    2022-04-21

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    2022-04-20

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    高温真空无氧烤箱有哪些优点外型尺寸相对较小，节约空间氮气使用量减小，能耗低真空固化效果更佳高温真空无氧烤箱用于键合前键合材料的真空固化、ITO膜退火，BCB/PI胶固化等工艺。广泛应用于半导体、电子产品、医疗卫生等行业，适用于工厂、高等院校...

    2022-04-15

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    2022-04-14

  • 选择HMDS烘箱注意事项
    选择HMDS烘箱的容积内腔尺寸：450*450*450mm，1-8寸片均适用，4寸晶圆可处理200P/次；HMDS烘箱真空泵的选择根据腔体容积，选配合适型号的真空泵。常用涡旋式真空泵又分为油泵和干泵。◆全无油泵，不会污染真空系统◆采用独立马...

    2022-04-13

  • 无氧烤箱中检测氧浓度的方法
    无氧烤箱中检测氧浓度的方法在以Y2O3稳定的ZrO2陶瓷(YSZ)中，当两侧附着多孔Pt电极的YSZ固体电介质的两侧存在氧浓度差时，氧离子就从氧浓度大的一侧(P"O2)向浓度小的一侧(P'O2)迁移，其步骤是：在高氧浓侧，一个氧原子得到两个...

    2022-04-12

  • 半导体专用厌氧烤箱的保护功能
    半导体专用厌氧烤箱安保功能：短路保护、漏电保护、超温保护、电机过电流保护、电磁门禁保护。半导体专用厌氧烤箱用途：精密无氧烘箱应用于精密电子元件、PI、BCB、LCP固化烘烤、光刻胶固化、电子陶瓷材料烘干的特殊工艺要求，模拟线性升降温环境，特...

    2022-04-12

  • HMDS六甲基二硅胺烷成底膜的方法与优点
    HMDS六甲基二硅胺烷成底膜的重要性半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶...

    2022-04-09

  • 超低温试验箱的容积应该如何正确选择
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    2022-03-24

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